公开(公告)号：CN103903664B

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：CN201410154451.0

申请日：2014-04-17

Applicant: 武汉大学

Inventor： 任峰 ,  洪梦庆 ,  张红秀 ,  秦文静 ,  刘丹 ,  肖湘衡 ,  蒋昌忠

IPC: G21F1/00

Abstract: 本发明公开了一种抗辐照多孔纳米膜，属于先进核能材料应用领域。其具有贯通表面的纵向纳米孔道，所述纵向纳米孔道的直径大于2纳米，所述纵向纳米孔道的间距小于间隙原子和He气体的扩散距离，并且每个纵向纳米孔道上还横向生长有枝杈状纳米孔道。利用多孔纳米膜丰富孔道，可以吸收辐照所产生的间隙原子、空位、嬗变气体等缺陷，还能将气体原子释放到材料外，从而大幅度降低材料体内缺陷浓度，防止间隙原子、空位、嬗变气体的聚集形成原子团簇、空洞、气泡等，大大提高了材料的抗辐照肿胀、硬化、非晶化能力。

公开(公告)号：CN103903664A

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201410154451.0

申请日：2014-04-17

Applicant: 武汉大学

Inventor： 任峰 ,  洪梦庆 ,  张红秀 ,  秦文静 ,  刘丹 ,  肖湘衡 ,  蒋昌忠

IPC: G21F1/00

Abstract: 本发明公开了一种抗辐照多孔纳米膜，属于先进核能材料应用领域。其具有贯通表面的纵向纳米孔道，所述纵向纳米孔道的直径大于2纳米，所述纵向纳米孔道的间距小于间隙原子和He气体的扩散距离，并且每个纵向纳米孔道上还横向生长有枝杈状纳米孔道。利用多孔纳米膜丰富孔道，可以吸收辐照所产生的间隙原子、空位、嬗变气体等缺陷，还能将气体原子释放到材料外，从而大幅度降低材料体内缺陷浓度，防止间隙原子、空位、嬗变气体的聚集形成原子团簇、空洞、气泡等，大大提高了材料的抗辐照肿胀、硬化、非晶化能力。