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公开(公告)号:CN117720101A
公开(公告)日:2024-03-19
申请号:CN202311561760.5
申请日:2023-11-22
Applicant: 中核四0四有限公司 , 中核四0四成都核技术工程设计研究院有限公司 , 武汉大学
IPC: C01B32/186 , C01B32/194
Abstract: 本发明涉及一种含有褶皱的石墨烯薄膜及其制备方法,包括以下步骤:(1)使用化学气相沉积法在金属基底表面制备单层石墨烯;(2)在单层石墨烯表面旋涂一层高分子支撑体,加热使高分子支撑体凝结;(3)使用离子刻蚀剂刻蚀金属基底;(4)待金属基底刻蚀后,使用湿法转移法转移至待用基底,去除高分子支撑体后最终得到含有褶皱的石墨烯薄膜。与现有技术相比,本发明采用物理方法制备得到了不含有其他官能团、不含缺陷的含有褶皱的石墨烯薄膜,工艺简单,制备时间大大缩短。
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公开(公告)号:CN106350771B
公开(公告)日:2019-07-23
申请号:CN201610908041.X
申请日:2016-10-18
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明公布了一种低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料,它是以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构,制备方法为:将金属钨纳米薄膜沉积在二氧化硅基底上,然后转移单层石墨烯到所述金属钨纳米薄膜的表面,之后交替沉积钨纳米薄膜和转移单层石墨烯,得到低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料。针对目前双金属的多层膜结构会使材料的热学性能大大降低,本发明提供了一种兼顾优秀的导热性能和抗辐照性能材料,其为以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构,不仅可以减小由于多层膜结构界面存在导致的热传导性能的下降,而且可以使材料保持优秀的抗辐照能力。
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公开(公告)号:CN106350771A
公开(公告)日:2017-01-25
申请号:CN201610908041.X
申请日:2016-10-18
Applicant: 武汉大学
CPC classification number: C23C28/322 , C23C14/185 , C23C14/35 , C23C16/01 , C23C16/26 , C23C28/343 , C23C28/42
Abstract: 本发明公布了一种低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料,它是以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构,制备方法为:将金属钨纳米薄膜沉积在二氧化硅基底上,然后转移单层石墨烯到所述金属钨纳米薄膜的表面,之后交替沉积钨纳米薄膜和转移单层石墨烯,得到低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料。针对目前双金属的多层膜结构会使材料的热学性能大大降低,本发明提供了一种兼顾优秀的导热性能和抗辐照性能材料,其为以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构,不仅可以减小由于多层膜结构界面存在导致的热传导性能的下降,而且可以使材料保持优秀的抗辐照能力。
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