半导体光源单元以及物体测量装置

    公开(公告)号:CN104111224B

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201410154981.5

    申请日:2014-04-17

    Abstract: 本发明公开了一种半导体光源单元和一种物体测量装置,根据本发明一个实施例的半导体光源单元包括但不限于:光源封装件;半导体发光元件;第一散热器;以及第一绝缘机壳。所述光源封装件具有第一表面和与该第一表面相对的第二表面。所述半导体发光元件包括在所述光源封装件内,被布置为邻近该光源封装的第一表面,并且被配置为发射光。所述第一散热器在所述光源封装件的外部,被布置为邻近该光源封装的第一表面,并且被配置为经由该光源封装件的第一表面接收由所述半导体发光元件产生的热量。所述第一绝缘机壳具有第一入口和第一出口并且包覆所述光源封装件和所述第一散热器,以防止所述光源封装和所述第一散热器暴露于外部空气。

    物质特性测定装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104246477A

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:CN201380017444.X

    申请日:2013-03-28

    Abstract: 一种物质特性测定装置,其将不同波长的光向被测定物质照射,并基于向被测定物质照射后的各个波长的光的相对强度,对被测定物质的特性进行测定,在物质特性测定装置中,即使不是光谱的半值宽度极窄的光也能够进行高精度的测定。物质特性测定装置的特征在于,具备:光源照射部,其将n个不同波长的光向被测定物质照射;检测部,其对向被测定物质照射后的各个波长的光的强度进行检测;以及运算处理部,其利用由行以及列分别小于或等于n阶的矩阵表示的校正系数,对检测出的各个波长中的至少一部分波长的光的强度进行校正,并基于校正后的各个波长的光的相对强度,计算表示被测定物质的特性的指标值。

    X射线测量设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102081164A

    公开(公告)日:2011-06-01

    申请号:CN201010566141.1

    申请日:2010-11-25

    Inventor: 市泽康史

    CPC classification number: G21K1/025 G01N23/083 G21K1/10

    Abstract: 本发明提供了一种X射线测量设备,其包括:X射线源,被配置为发射X射线,以用X射线辐照样品;准直器,被配置为使从X射线源发射的X射线束形成为切片的扇形光束X射线;通量挡板,被配置为阻挡扇形光束X射线的通量的一部分,以在调整通量的能量强度分布的同时抑制光束硬化,所述通量挡板被放置在准直器和样品之间;以及X射线检测器,被配置为检测透过样品的X射线的剂量。

    放射线检测设备
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102168958B

    公开(公告)日:2014-01-29

    申请号:CN201010609292.0

    申请日:2010-12-20

    CPC classification number: G01T1/185 G01N23/16 G01N33/346

    Abstract: 一种放射线检测设备,包括:放射线检测单元,其对已经透过检验对象的放射线的第一强度进行检测以产生第一测量值,所述检验对象布置在所述放射源与所述放射线检测单元之间;透射电离室,其对还未到达检验对象的放射线的第二强度进行检测以产生第二测量值,所述透射电离室具有封闭结构,所述透射电离室布置在所述放射源与所述检验对象之间,所述透射电离室包括入射窗口和出射窗口,放射线通过所述入射窗口进入所述透射电离室,并且放射线通过所述出射窗口离开所述透射电离室;和运算单元,其根据所述第一测量值和所述第二测量值来计算所述检验对象的物理量。

    涂层尺寸测量仪
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103245297A

    公开(公告)日:2013-08-14

    申请号:CN201310034078.0

    申请日:2013-01-29

    Inventor: 市泽康史

    CPC classification number: G01B11/00 G01B11/043 G01B11/046

    Abstract: 涂层尺寸测量仪可包括:照相机,其被定位在与片材相距指定距离的位置以拍摄片材的涂层尺寸的图像;辊子,其被构造成传送片材;标尺,其沿辊子的长度方向设置以进行涂层尺寸的数值标定;标尺托举单元,其被构造成将标尺托举在辊子的上方,标尺托举单元设置成使标尺能够自由插入和移出。

    红外线分析装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102654454A

    公开(公告)日:2012-09-05

    申请号:CN201210040057.5

    申请日:2012-02-20

    Abstract: 本发明提供一种红外线分析装置,其使用红外光分析检查对象物的特性,具有:第1测头,其具有多个光源和多边形状的光学元件,上述光源配置在上述检查对象物的一侧,出射应向上述检查对象物照射的波长不同的红外光,上述光学元件配置在该光源和上述检查对象物之间,使从上述多个光源出射的各种红外光多重反射,从而使强度分布均匀化;以及第2测头,其具有检测器,上述检测器配置在上述检查对象物的另一侧,检测经由上述检查对象物的红外光。

    位置测定系统
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102288108A

    公开(公告)日:2011-12-21

    申请号:CN201110118529.X

    申请日:2011-05-09

    CPC classification number: G01B11/028

    Abstract: 本发明实现一种位置测定系统,其不会受到随品种而改变的涂敷模式的影响,可以准确地测定边缘或关注部位的位置偏移。其使用照相机,测定所输送的片状物体的预先确定的关注部位的位置,其特征在于,具有:第1照相机单元,其设置在所述片状物体的一侧边缘的大致上方,具备使片状物体的像成像的拍摄元件,对片状物体的所述关注部位进行拍摄;第2照相机单元,其设置在片状物体的另一侧边缘的大致上方,具备使片状物体的像成像的拍摄元件,对片状物体的所述关注部位进行拍摄;以及测定单元,其针对由各拍摄元件成像的所述片状物体的像,基于关注部位的位置相对于预先确定的基准位置的变动,判定送料线高度是否变动,测定边缘的位置偏移。

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