一种均质自旋转淬火抓取机构及其形成的均质自转淬火方法

    公开(公告)号:CN119464642A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411640714.9

    申请日:2024-11-18

    Abstract: 一种均质自旋转淬火抓取机构及其形成的均质自转淬火方法。曲轴在调质过程中常出现淬火不均匀,导致残余应力分布不均出现裂纹和断裂,影响曲轴后续的疲劳强度以及其他相关性能。本发明中机械臂的移动端设置有旋转驱动件,旋转驱动件的动力输出轴与抓头相连接,抓头在旋转驱动件的带动下做出自转运动;均质自转淬火方法为根据待处理曲轴的长度尺寸对应调整两个均质自旋转淬火抓取机构中抓头之间的距离,调节一个均质自旋转淬火抓取机构中抓头使其托块朝向曲轴移动,从而通过外支撑环体的配合带动多个夹持爪外张展开,将曲轴的一端贴靠在托块上后,托块回移带动多个夹持爪的夹持端同步夹持曲轴的端部。

    一种多位干湿交替压片装置及其压片方法

    公开(公告)号:CN118650920A

    公开(公告)日:2024-09-17

    申请号:CN202411090457.6

    申请日:2024-08-09

    Abstract: 一种多位干湿交替压片装置及其压片方法。压片过程中缺少能够随需准确介入的粉末或制剂单一操作或交替复合相关的处理方式。本发明中多位干湿交替压片装置包括上压合控位件、下压合控位件和箱形总座体从上至下依次水平设置,箱形总座体上设有下压合控位件,上压合控位件和下压合控位件之间竖直并列设置有多个导向柱,工作台套装在多个导向柱之间,工作台上设有压合模板,压合模板配合设置有供料框,供料框沿工作台的长度方向往复滑动,竖直控件竖直穿设在工作台、下压合控位件和箱形总座体之间,工作台通过竖直控件的带动下在上压合控位件和下压合控位件之间做出竖向往复运动;本发明中的压片方法包括一次连续压片过程以及交替压片过程。

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