-
公开(公告)号:CN109232617A
公开(公告)日:2019-01-18
申请号:CN201811027599.2
申请日:2018-09-04
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本发明公开了一种单分子磁体阴离子框架材料及合成方法。阴离子框架材料化学式为{(CH3)2NH2[Dy(ox)2(H2O)]·3H2O}n,分子式为:C6NH16DyO12,分子量为:456.69g/mol。将碳酸镝和二水合草酸分别加入蒸馏水,而后将两者混合,并加N,N-二甲基甲酰胺,搅拌,控制pH在3,置于140℃的烘箱恒温四天,降温。利用Debye拟合方程计算该化合物能垒和弛豫时间,其最佳拟合结果为Ueff≈6.6K,τ0≈2.11×10-13s,证明该阴离子框架材料具有单分子磁体性质。本发明具有工艺简单、化学组分易于控制、重复性好等优点。