一种单分子磁体阴离子框架材料及合成方法

    公开(公告)号:CN109232617A

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201811027599.2

    申请日:2018-09-04

    Abstract: 本发明公开了一种单分子磁体阴离子框架材料及合成方法。阴离子框架材料化学式为{(CH3)2NH2[Dy(ox)2(H2O)]·3H2O}n,分子式为:C6NH16DyO12,分子量为:456.69g/mol。将碳酸镝和二水合草酸分别加入蒸馏水,而后将两者混合,并加N,N-二甲基甲酰胺,搅拌,控制pH在3,置于140℃的烘箱恒温四天,降温。利用Debye拟合方程计算该化合物能垒和弛豫时间,其最佳拟合结果为Ueff≈6.6K,τ0≈2.11×10-13s,证明该阴离子框架材料具有单分子磁体性质。本发明具有工艺简单、化学组分易于控制、重复性好等优点。

    一种阴离子框架磁制冷材料及合成方法

    公开(公告)号:CN109206443A

    公开(公告)日:2019-01-15

    申请号:CN201811026675.8

    申请日:2018-09-04

    Abstract: 本发明公开了一种阴离子框架磁制冷材料及其合成方法。阴离子框架磁制冷材料化学式为{(CH3)2NH2[Gd(ox)2(H2O)]·3H2O}n,分子式为:C6NH16GdO12,分子量为:451.44;将碳酸钆和二水合草酸分别加入蒸馏水,而后将两者混合,并加N,N-二甲基甲酰胺,搅拌,控制其pH在3,置于140℃的烘箱恒温四天,降温。在温度为2K以及磁场为7T时,该化合物的磁熵变值最大为37.8J kg–1K–1,说明{(CH3)2NH2[Gd(ox)2(H2O)]·3H2O}n在磁制冷方面具有潜在的应用前景。本发明具有工艺简单、化学组分易于控制、重复性好而且性能优等优点。

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