一种门极换流晶闸管及其制备方法

    公开(公告)号:CN108242465B

    公开(公告)日:2020-07-03

    申请号:CN201611205266.5

    申请日:2016-12-23

    Abstract: 本发明公开了一种门极换流晶闸管及其制备方法。本发明的晶闸管的层状结构竖直方向自下而上依次为P+透明发射阳极、N′缓冲层、N‑基区、P基区、P+基区以及半埋于P+基区顶部的N+发射区,其中:所述N+发射区覆盖所述P+基区顶部的一部分;门极G位于所述P+基区顶部所述N+发射区没有覆盖的部分上;所述P+基区包含水平并排的P1+短基区以及P2+短基区,其中,所述P1+短基区位于所述门极G正下方,所述P2+短基区位于所述N+发射区正下方,所述P1+短基区的掺杂浓度低于所述P2+短基区的掺杂浓度。相较于现有技术,本发明不仅提高GCT关断电流能力,并降低关断能量;而且降低了GCT触发电流,保持了GCT低通态压降的优势。

    一种门极换流晶闸管及其制备方法

    公开(公告)号:CN108242465A

    公开(公告)日:2018-07-03

    申请号:CN201611205266.5

    申请日:2016-12-23

    Abstract: 本发明公开了一种门极换流晶闸管及其制备方法。本发明的晶闸管的层状结构竖直方向自下而上依次为P+透明发射阳极、N′缓冲层、N-基区、P基区、P+基区以及半埋于P+基区顶部的N+发射区,其中:所述N+发射区覆盖所述P+基区顶部的一部分;门极G位于所述P+基区顶部所述N+发射区没有覆盖的部分上;所述P+基区包含水平并排的P1+短基区以及P2+短基区,其中,所述P1+短基区位于所述门极G正下方,所述P2+短基区位于所述N+发射区正下方,所述P1+短基区的掺杂浓度低于所述P2+短基区的掺杂浓度。相较于现有技术,本发明不仅提高GCT关断电流能力,并降低关断能量;而且降低了GCT触发电流,保持了GCT低通态压降的优势。

Patent Agency Ranking