表面保护膜
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114008155B

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202080045047.3

    申请日:2020-11-20

    Abstract: 本公开内容提供了表面保护膜,所述表面保护膜在用于有机发光二极管的封装层的制造过程中使用,并且使得可以防止由于溶剂从保护膜挥发而导致的在保护膜中产生气泡或者保护膜的表面平滑度降低。具体地,本公开内容提供了表面保护膜,所述表面保护膜包括设置在基底层的一个表面上的粘合剂层,其中粘合剂层包含粘合剂组合物的固化产物,所述粘合剂组合物包含:在其末端或侧链处具有光反应性基团的基于氨基甲酸酯的树脂;单官能(甲基)丙烯酸酯单体;在其末端具有两个或更多个光反应性基团的交联剂;光引发剂;以及光反应性硅氧烷添加剂,所述粘合剂组合物不含溶剂。

    用于光学构件的表面保护膜

    公开(公告)号:CN114174452A

    公开(公告)日:2022-03-11

    申请号:CN202080054131.1

    申请日:2020-12-11

    Abstract: 本发明提供了表面保护膜,所述表面保护膜在用于有机发光二极管的封装层的制造过程中使用并且使得可以防止由于溶剂从表面保护膜中挥发而导致的在保护膜中产生气泡或表面保护膜的表面平滑度降低的发生。表面保护膜包括在基底膜的一个表面上的粘合剂层,其中所述粘合剂层为组合物的固化产物,所述组合物包含:在其末端或侧链处具有光反应性基团的基于氨基甲酸酯的树脂;单官能(甲基)丙烯酸酯单体;在其末端处具有两个或更多个光反应性基团的交联剂;剥离强度调节剂;和光引发剂,所述组合物不含溶剂;以及所述粘合剂层的按照以180°的剥离角度和1.8m/分钟的剥离速率在玻璃上测量的剥离强度为0.5gf/英寸至10gf/英寸。

    光学膜、光学膜制造方法和有机发光电子器件制造方法

    公开(公告)号:CN111247657B

    公开(公告)日:2022-11-18

    申请号:CN201880067869.4

    申请日:2018-10-23

    Abstract: 本申请涉及光学膜、用于制备光学膜的方法和用于制造有机发光电子装置的方法。所述光学膜包括:基础层,所述基础层包括基础膜以及各自设置在所述基础膜的两个表面上的第一抗静电层和第二抗静电层;以及保护层,所述保护层包括保护膜、各自设置在所述保护膜的两个表面上的第三抗静电层和第四抗静电层、以及设置在所述第三抗静电层的与面对所述保护膜的表面相反的表面上的离型层,其中所述基础层和所述保护层通过粘合剂层粘结使得所述第二抗静电层和所述离型层彼此面对;所述粘合剂层的与所述离型层接触的表面的表面电阻大于或等于109Ω/sq且小于或等于5×1012Ω/sq;以及所述粘合剂层在100kHz下的相对介电常数为3.5或更大。

    表面保护膜
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114008155A

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202080045047.3

    申请日:2020-11-20

    Abstract: 本公开内容提供了表面保护膜,所述表面保护膜在用于有机发光二极管的封装层的制造过程中使用,并且使得可以防止由于溶剂从保护膜挥发而导致的在保护膜中产生气泡或者保护膜的表面平滑度降低。具体地,本公开内容提供了表面保护膜,所述表面保护膜包括设置在基底层的一个表面上的粘合剂层,其中粘合剂层包含粘合剂组合物的固化产物,所述粘合剂组合物包含:在其末端或侧链处具有光反应性基团的基于氨基甲酸酯的树脂;单官能(甲基)丙烯酸酯单体;在其末端具有两个或更多个光反应性基团的交联剂;光引发剂;以及光反应性硅氧烷添加剂,所述粘合剂组合物不含溶剂。

Patent Agency Ranking