基板检查装置及基板检查方法

    公开(公告)号:CN113324487B

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202110505263.8

    申请日:2018-11-28

    Abstract: 本公开的基板检查装置可以包括:第一光源,其朝向混合有荧光染料的基板的涂覆膜照射紫外线;第一光传感器,其捕获从所述紫外线照射的所述涂覆膜发生的荧光并获得所述基板的二维图像;处理器,其基于所述二维图像,导出所述基板的多个区域中的一个区域;第二光源,其朝向所述一个区域照射激光;及第二光传感器,其获得借助于所述激光而从所述一个区域发生的光干涉数据;所述处理器可以基于所述光干涉数据,导出关于所述一个区域的涂覆膜的厚度。

    血流测量装置及血流测量方法

    公开(公告)号:CN113423335A

    公开(公告)日:2021-09-21

    申请号:CN202080013664.5

    申请日:2020-02-11

    Abstract: 本公开的多种实施例的血流测量装置可以向对象体的第一位置及位于所述第一位置的第一方向的第二位置照射光,获得在所述第一位置及所述第二位置的反射光的强度而确定作为各个反射光的强度差异的第一值,向所述对象体的第三位置照射光,其中,所述第三位置位于作为与所述第二位置的所述第一方向相反方向的第二方向,获得在所述第三位置的反射光的强度,确定作为在所述第二位置及所述第三位置各自的反射光的强度差异的第二值,基于所述第一值及所述第二值来确定所述对象体中的血流方向。还可以有此外的多种实施例。

    基板检查装置及基板检查方法

    公开(公告)号:CN109974599B

    公开(公告)日:2021-03-16

    申请号:CN201811434729.4

    申请日:2018-11-28

    Abstract: 本公开提出一种基板检查装置。本公开的基板检查装置可以包括:光源,其朝向在基板上的一个区域涂覆的涂覆膜照射激光;光传感器,其获得由所述激光被所述涂覆膜的表面反射而生成的基准光及所述激光透过所述涂覆膜而散射的测量光之间的干涉引起的光干涉数据;及处理器,其基于所述光干涉数据,导出与所述一个区域相应的所述涂覆膜的厚度。

    血流测量装置及血流测量方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119867811A

    公开(公告)日:2025-04-25

    申请号:CN202510052215.6

    申请日:2020-02-11

    Abstract: 本公开的多种实施例的血流测量装置可以向对象体的第一位置及位于所述第一位置的第一方向的第二位置照射光,获得在所述第一位置及所述第二位置的反射光的强度而确定作为各个反射光的强度差异的第一值,向所述对象体的第三位置照射光,其中,所述第三位置位于作为与所述第二位置的所述第一方向相反方向的第二方向,获得在所述第三位置的反射光的强度,确定作为在所述第二位置及所述第三位置各自的反射光的强度差异的第二值,基于所述第一值及所述第二值来确定所述对象体中的血流方向。还可以有此外的多种实施例。

    用于确定对象体的三维形象的装置及方法

    公开(公告)号:CN119468980A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411588555.2

    申请日:2020-06-29

    Abstract: 本公开提出用于确定对象体的三维形象的装置。所述装置包括:一个以上的第一光源,向所述对象体照射一个以上的第一图案光;第二光源,依次照射具有一个相位范围的一个以上的第二图案光;光束分离器及一个以上的透镜,变更所述一个以上的第二图案光的光路;图像传感器,捕获一个以上的第一反射光及一个以上的第二反射光;及处理器,基于所述一个以上的第一反射光及所述一个以上的第二反射光而确定所述对象体的所述第一三维形象。

    OCT系统、OCT影像生成方法及存储介质

    公开(公告)号:CN113776428B

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202110948304.0

    申请日:2019-05-21

    Abstract: 本发明作为三维影像补正方法,为了补正因光学系而生成的CGC(Coherence Gate Curvature、相干门弯曲)导致的影像失真,从干涉信号生成放置了测量对象物的样本支架的三维影像,基于三维影像中出现的样本支架的盖玻片的影像,生成CGC轮廓,从CGC轮廓生成CGC拟合曲线,利用CGC拟合曲线,补正干涉信号。本发明还涉及一种能够执行三维影像补正方法的OCT(相干断层扫描)系统。

    用于确定对象体的三维形象的装置及方法

    公开(公告)号:CN114096800A

    公开(公告)日:2022-02-25

    申请号:CN202080047550.2

    申请日:2020-06-29

    Abstract: 本公开提出用于确定对象体的三维形象的装置。根据本公开的装置可以包括:一个以上的第一光源,所述一个以上的第一光源向所述对象体照射一个以上的第一图案光;第二光源,所述第二光源依次照射具有一个相位范围的一个以上的第二图案光;光束分离器及一个以上的透镜,所述光束分离器及一个以上的透镜变更所述一个以上的第二图案光的光路,以使与所述相位范围的各相位对应的光分散到达所述对象体的上表面的一部分区域;图像传感器,所述图像传感器捕获所述一个以上的第一图案光由所述对象体反射而生成的一个以上的第一反射光及所述一个以上的第二图案光由所述一部分区域反射而生成的一个以上的第二反射光;及处理器,所述处理器与所述一个以上的第一光源、所述第二光源及所述图像传感器电气连接;所述处理器可以基于所述一个以上的第一反射光及所述一个以上的第二反射光而确定所述对象体的所述第一三维形象。

    光学跟踪系统及光学跟踪方法

    公开(公告)号:CN109938843B

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:CN201711403280.0

    申请日:2017-12-22

    Inventor: 洪德和

    Abstract: 提供一种跟踪标记的位置及姿势的光学跟踪系统。光学跟踪系统包括:成像装置,其包括对标记的至少一部分进行成像而生成光场图像的第一成像部及对从开口释放的出射光进行成像的第二成像部;及处理器,其以第一图像为基础,决定标记的姿势,基于第二图像及第三图像,决定标记的位置,其中,所述第一图像是从光场图像,作为在无限大焦距处成像的图像而提取并由图案面的一部分成像的图像,所述第二图像是从光场图像,作为在比无限大焦距近的焦距处成像的图像而提取的图像,所述第三图像是在与朝向第一成像部的出射光不同的方向,由通过开口释放的出射光借助于第二成像部而成像的图像。

    用于确定对象体的三维形象的装置及方法

    公开(公告)号:CN114096800B

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202080047550.2

    申请日:2020-06-29

    Abstract: 本公开提出用于确定对象体的三维形象的装置。所述装置包括:一个以上的第一光源,向所述对象体照射一个以上的第一图案光;第二光源,依次照射具有一个相位范围的一个以上的第二图案光;光束分离器及一个以上的透镜,变更所述一个以上的第二图案光的光路;图像传感器,捕获一个以上的第一反射光及一个以上的第二反射光;及处理器,基于所述一个以上的第一反射光及所述一个以上的第二反射光而确定所述对象体的所述第一三维形象。

    用于确定对象体的三维形象的装置及方法

    公开(公告)号:CN118758213A

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202411053934.1

    申请日:2020-06-29

    Abstract: 本公开提出用于确定对象体的三维形象的装置。所述装置包括:第一光源,向对象体依次照射第一图案光;一个以上的第一图像传感器,捕获一个以上的第一图案光由对象体反射而生成的一个以上的第一反射光;第二光源,依次照射具有一个相位范围的一个以上的第二图案光;光束分离器及一个以上的透镜,变更一个以上的第二图案光的光路,以使与相位范围的各相位对应的光到达对象体的上表面的一部分区域;第二图像传感器,捕获一个以上的第二图案光由一部分区域反射而生成的一个以上的第二反射光;及处理器,与第一光源、一个以上的第一图像传感器、第二光源及第二图像传感器电气连接;并基于所述第一反射光及所述第二反射光而确定对象体的第一三维形象。

Patent Agency Ranking