公开(公告)号：CN115464546A

公开(公告)日：2022-12-13

申请号：CN202210565266.5

申请日：2022-05-23

Applicant: 株式会社电装

Inventor： 青木一史 ,  丸野尚纪 ,  巴赫曼·苏丹尼 ,  加藤裕也 ,  高武恭平 ,  向田慎二 ,  富坂学 ,  石原康生 ,  中泽秀作 ,  山口哲司

IPC: B24B37/00 ,  B24B1/00

Abstract: 提供了用于SiC衬底的表面处理设备和表面处理方法。提供了使用阳极氧化的用于SiC衬底的表面处理设备和表面处理方法。用于SiC衬底(W)的表面处理设备(1)包括表面处理垫(3)和电源装置(5)。表面处理垫(32)包括磨轮层。磨轮层被布置成面向SiC衬底的工件表面(W1)。电源装置使周期大于0.01秒且小于或等于20秒的脉冲电流在存在电解液(S)的情况下通过作为阳极的SiC衬底来对要由磨轮层处理的工件表面进行阳极氧化。