β-Ga2O3系单晶衬底的制造方法

    公开(公告)号:CN109898135A

    公开(公告)日:2019-06-18

    申请号:CN201910106987.8

    申请日:2015-07-01

    Abstract: 一种β-Ga2O3系单晶衬底的制造方法,包含以下工序:在包含惰性气体、以及与所述惰性气体的流量比为0~2%的氧的环境中,通过EFG法培养线状凹坑的密度的平均值为1000个/cm2以下的β-Ga2O3系单晶的工序;以及从所述β-Ga2O3系单晶截出β-Ga2O3系单晶衬底的工序,在培养所述β-Ga2O3系单晶的工序中,根据所述β-Ga2O3系单晶中的有效载流子浓度将所述流量比在0~2%的范围内设定为规定的值。

    β-Ga2O3系单晶衬底的制造方法

    公开(公告)号:CN109898135B

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN201910106987.8

    申请日:2015-07-01

    Abstract: 一种β-Ga2O3系单晶衬底的制造方法,包含以下工序:在包含惰性气体、以及与所述惰性气体的流量比为0~2%的氧的环境中,通过EFG法培养线状凹坑的密度的平均值为1000个/cm2以下的β-Ga2O3系单晶的工序;以及从所述β-Ga2O3系单晶截出β-Ga2O3系单晶衬底的工序,在培养所述β-Ga2O3系单晶的工序中,根据所述β-Ga2O3系单晶中的有效载流子浓度将所述流量比在0~2%的范围内设定为规定的值。

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