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公开(公告)号:CN1293645C
公开(公告)日:2007-01-03
申请号:CN03148752.1
申请日:2003-06-24
Applicant: 株式会社瑞萨科技
IPC: H01L29/78 , H01L27/105 , G11C11/34 , G11C16/02
CPC classification number: H01L29/66833 , H01L21/26586 , H01L21/28282 , H01L27/115 , H01L27/11568 , H01L29/42352 , H01L29/42368 , H01L29/513 , H01L29/66545 , H01L29/66583 , H01L29/7833 , H01L29/7923
Abstract: 提供一种半导体器件及其制造方法,该半导体器件在进行非易失性存储器的定标(scaling)时,1个存储单元中也可保持多比特的信息。在MONOS晶体管的沟道部分形成沟槽TR1。并且,使栅绝缘膜120中的氮化硅膜122中的夹持沟槽TR1的源侧部分和漏侧部分具有用作可保持电荷CH1,CH2的第一和第二电荷保持部的功能。这样,捕获电荷CH1后捕获电荷CH2时,栅电极130中沟槽TR1内的部分130a起到屏蔽的作用。如果向栅电极130上提供固定电极,则电荷CH1诱发的电场EF1的影响不会波及到第二电荷保持部,从而不会妨碍电荷CH2的捕获。
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公开(公告)号:CN1790746A
公开(公告)日:2006-06-21
申请号:CN200510125004.3
申请日:2003-06-24
Applicant: 株式会社瑞萨科技
IPC: H01L29/78 , H01L29/423 , H01L27/105 , H01L27/112 , H01L27/115
Abstract: 提供一种半导体器件及其制造方法,该半导体器件在进行非易失性存储器的定标(scaling)时,1个存储单元中也可保持多比特的信息。在MONOS晶体管的沟道部分形成沟槽TR1。并且,使栅绝缘膜120中的氮化硅膜122中的夹持沟槽TR1的源侧部分和漏侧部分具有用作可保持电荷CH1,CH2的第一和第二电荷保持部的功能。这样,捕获电荷CH1后捕获电荷CH2时,栅电极130中沟槽TR1内的部分130a起到屏蔽的作用。如果向栅电极130上提供固定电极,则电荷CH1诱发的电场EF1的影响不会波及到第二电荷保持部,从而不会妨碍电荷CH2的捕获。
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公开(公告)号:CN1503371A
公开(公告)日:2004-06-09
申请号:CN03148752.1
申请日:2003-06-24
Applicant: 株式会社瑞萨科技
IPC: H01L29/78 , H01L27/105 , G11C11/34 , G11C16/02
CPC classification number: H01L29/66833 , H01L21/26586 , H01L21/28282 , H01L27/115 , H01L27/11568 , H01L29/42352 , H01L29/42368 , H01L29/513 , H01L29/66545 , H01L29/66583 , H01L29/7833 , H01L29/7923
Abstract: 提供一种半导体器件及其制造方法,该半导体器件在进行非易失性存储器的定标(scaling)时,1个存储单元中也可保持多比特的信息。在MONOS晶体管的沟道部分形成沟槽TR1。并且,使栅绝缘膜120中的氮化硅膜122中的夹持沟槽TR1的源侧部分和漏侧部分具有用作可保持电荷CH1,CH2的第一和第二电荷保持部的功能。这样,捕获电荷CH1后捕获电荷CH2时,栅电极130中沟槽TR1内的部分130a起到屏蔽的作用。如果向栅电极130上提供固定电极,则电荷CH1谤发的电场EF1的影响不会波及到第二电荷保持部,从而不会妨碍电荷CH2的捕获。
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