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发明公开
定量分析装置、方法以及程序和制造管理系统审中-实审

公开(公告)号：CN115436406A

公开(公告)日：2022-12-06

申请号：CN202210578178.9

申请日：2022-05-24

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 葛卷贵大 , 小泽哲也 , 笠利实希 , 姫田章宏 , 大渕敦司 , 绀谷贵之

IPC: G01N23/2055 , G06Q50/04

Abstract: 本发明提供定量分析装置、方法以及程序和制造管理系统，易于对制造工序的管理的应用，能得到高精度且准确的定量值。具备：WPPF部(320)，通过对解析对象的X射线衍射线形进行全图拟合来决定理论衍射强度的参数；标度因子取得部(325)，其取得所决定的参数当中的被检成分的标度因子；校正曲线存储部(350)，其存储表示对标准样品取得的被检成分的标度因子与标准样品中的被检成分的含有率的相关的校正曲线；和变换部(370)，其使用所存储的校正曲线来将针对分析对象样品取得的被检成分的标度因子变换为分析对象样品中的被检成分的含有率。

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