-
公开(公告)号：CN102959387B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201180031886.0
申请日：2011-04-21
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
CPC classification number: G01N23/223 , G01N2223/076 , G01N2223/3306 , G01N2223/6116
Abstract: 本发明涉及的荧光X射线分析装置包括：试样台(8)，载置具有结晶构造的试样(S)；X射线源(1)，对试样(S)照射一次X射线(2)；检测机构(7)，检测从试样(S)产生的二次X射线(4)；旋转机构(11)，使试样台(8)旋转；平行移动机构(12)，使试样台(8)平行移动；选择机构(17)，基于与试样(S)的旋转角度和在其角度所产生的二次X射线(4)的强度相对应而取得的衍射图案，来选择至少3个相邻间隔不到180°，且可回避衍射X射线的回避角度；以及控制机构(15)，其控制旋转机构(11)以将试样(S)设定在回避角度，该回避角度为试样台(8)、旋转机构(11)以及平行移动机构(12)不会干涉该装置的其他构造物的角度。
-
公开(公告)号：CN112074728A
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201980030119.4
申请日：2019-03-28
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明提供一种能够计算正确的测量时间的荧光X射线分析系统。通过对样品的表面照射1次X射线所产生的荧光X射线对所述样品进行分析，具有：作业执行部，执行表示处理条件的作业，处理条件是表示组合多个分析所需的动作而构成的测量条件的菜单与由该菜单所表示的测量条件所测量的样品相关联的条件；存储部，使各动作所需要的时间与各动作预先关联存储；计算部，当生成了作业时，基于存储部中存储的时间，对每个作业计算直到该作业的执行结束为止的时间；以及控制部，当作业被执行时，使动作所需的时间与该动作重新关联存储在所述存储部中，其中，当作业被执行时，计算部还基于存储部重新存储的时间计算直到作业的执行结束为止的时间。
-
公开(公告)号：CN112074728B
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN201980030119.4
申请日：2019-03-28
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明提供一种能够计算正确的测量时间的荧光X射线分析系统。通过对样品的表面照射1次X射线所产生的荧光X射线对所述样品进行分析，具有：作业执行部，执行表示处理条件的作业，处理条件是表示组合多个分析所需的动作而构成的测量条件的菜单与由该菜单所表示的测量条件所测量的样品相关联的条件；存储部，使各动作所需要的时间与各动作预先关联存储；计算部，当生成了作业时，基于存储部中存储的时间，对每个作业计算直到该作业的执行结束为止的时间；以及控制部，当作业被执行时，使动作所需的时间与该动作重新关联存储在所述存储部中，其中，当作业被执行时，计算部还基于存储部重新存储的时间计算直到作业的执行结束为止的时间。
-
公开(公告)号：CN102959387A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201180031886.0
申请日：2011-04-21
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
CPC classification number: G01N23/223 , G01N2223/076 , G01N2223/3306 , G01N2223/6116
Abstract: 本发明涉及的荧光X射线分析装置包括：试样台(8)，载置具有结晶构造的试样(S)；X射线源(1)，对试样(S)照射一次X射线(2)；检测机构(7)，检测从试样(S)产生的二次X射线(4)；旋转机构(11)，使试样台(8)旋转；平行移动机构(12)，使试样台(8)平行移动；选择机构(17)，基于与试样(S)的旋转角度和在其角度所产生的二次X射线(4)的强度相对应而取得的衍射图案，来选择至少3个相邻间隔不到180°，且可回避衍射X射线的回避角度；以及控制机构(15)，其控制旋转机构(11)以将试样(S)设定在回避角度，该回避角度为试样台(8)、旋转机构(11)以及平行移动机构(12)不会干涉该装置的其他构造物的角度。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.016 seconds)
