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公开(公告)号：CN110726742B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN201910510399.0
申请日：2019-06-13
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/20008 , G01T1/36 , G01N23/20
Abstract: 本发明提供一种X射线分析装置及其光轴的调整方法，能够每当进行使用分析器的测量时不进行光轴调整，缩短测量时间、降低测量成本。X射线分析装置包括：样品台，用于支持样品；N维检测器(N是整数1或2)；以及分析器，包括1或多个分析器晶体，所述N维检测器的检测面具有第一检测区域和与所述第一检测区域分离配置并且与所述第一检测区域区分检测的第二检测区域，所述样品产生的衍射X射线所行进的多条光路包括直接到达所述第一检测区域的第一光路和经由所述1或多个分析器晶体而到达的第二光路，所述N维检测器根据所述第一检测区域的X射线检测进行所述第一光路的测量，根据所述第二检测区域的X射线检测进行所述第二光路的测量。
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公开(公告)号：CN105593670A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201480052656.6
申请日：2014-01-27
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/207
CPC classification number: G01N23/207 , G01N2223/3301
Abstract: 不使用后级受光狭缝就能够变更测定分辨率，并且对于在使用后级受光狭缝的情况下无法实现的测定分辨率的变更也能够灵活地应对。本发明的X射线衍射装置对试样台(7)上的试样(S)照射由X射线源产生的X射线，利用检测器(15)来检测在该试样(S)处衍射后的X射线，具备虚拟掩模设定部(26)和信号处理部(21)。检测器(15)按形成检测面(17)的多个检测元件(16)的每个检测元件(16)，输出与由检测元件(16)接收到的X射线的强度相应的检测信号。虚拟掩模设定部(26)对检测器(15)的检测面(17)设定虚拟掩模(31)，并且至少能够设定虚拟掩模的开口尺寸来作为虚拟掩模(31)的开口条件，其中，该虚拟掩模的开口尺寸是在X方向和Y方向上独立地设定的。信号处理部(21)根据由虚拟掩模设定部(26)设定的虚拟掩模的开口条件对从检测器(15)输出的检测信号进行处理。
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公开(公告)号：CN105593670B
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201480052656.6
申请日：2014-01-27
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/207
CPC classification number: G01N23/207 , G01N2223/3301
Abstract: 不使用后级受光狭缝就能够变更测定分辨率，并且对于在使用后级受光狭缝的情况下无法实现的测定分辨率的变更也能够灵活地应对。本发明的X射线衍射装置对试样台(7)上的试样(S)照射由X射线源产生的X射线，利用检测器(15)来检测在该试样(S)处衍射后的X射线，具备虚拟掩模设定部(26)和信号处理部(21)。检测器(15)按形成检测面(17)的多个检测元件(16)的每个检测元件(16)，输出与由检测元件(16)接收到的X射线的强度相应的检测信号。虚拟掩模设定部(26)对检测器(15)的检测面(17)设定虚拟掩模(31)，并且至少能够设定虚拟掩模的开口尺寸来作为虚拟掩模(31)的开口条件，其中，该虚拟掩模的开口尺寸是在X方向和Y方向上独立地设定的。信号处理部(21)根据由虚拟掩模设定部(26)设定的虚拟掩模的开口条件对从检测器(15)输出的检测信号进行处理。
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公开(公告)号：CN110726742A
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201910510399.0
申请日：2019-06-13
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/20008 , G01T1/36 , G01N23/20
Abstract: 本发明提供一种X射线分析装置及其光轴的调整方法，能够每当进行使用分析器的测量时不进行光轴调整，缩短测量时间、降低测量成本。X射线分析装置包括：样品台，用于支持样品；N维检测器(N是整数1或2)；以及分析器，包括1或多个分析器晶体，所述N维检测器的检测面具有第一检测区域和与所述第一检测区域分离配置并且与所述第一检测区域区分检测的第二检测区域，所述样品产生的衍射X射线所行进的多条光路包括直接到达所述第一检测区域的第一光路和经由所述1或多个分析器晶体而到达的第二光路，所述N维检测器根据所述第一检测区域的X射线检测进行所述第一光路的测量，根据所述第二检测区域的X射线检测进行所述第二光路的测量。
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