公开(公告)号：CN1182524C

公开(公告)日：2004-12-29

申请号：CN00104193.2

申请日：2000-02-09

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 村田省藏 ,  田嶋行利

IPC: G11B7/26 ,  G11B7/007 ,  B29C45/26

CPC classification number: G11B7/263 ,  B29C45/2632 ,  B29C2045/2636 ,  G11B7/007 ,  G11B7/261 ,  Y10T428/21 ,  Y10T428/26

Abstract: 一种光盘及其生产方法，特别是一种用于模制能够与市场上的CD(光盘)播放器具有较高兼容性的光盘的半导体光盘基底的压模、一种生产压模的方法、一种生产光盘基底的方法、一种生产光盘的方法以及一种光盘基底和一种光盘。本发明增强了转印能力并提高光盘基底模制周期的生产节拍，允许在转印面上形成细微的结构图案，并不需要改变已有的模具设备。当通过旋涂将颜料涂剂填充到光盘上的导向槽中时，在其径向方向上具有基本一致的结构。

公开(公告)号：CN103567192B

公开(公告)日：2016-12-28

申请号：CN201310301359.8

申请日：2013-07-18

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 种子田裕介 ,  渕上明弘 ,  塚原兴治 ,  村上格二 ,  村田省藏

IPC: B08B7/00

CPC classification number: B08B5/04 ,  B08B7/02 ,  B08B7/04 ,  B08B15/04

Abstract: 本发明涉及一种干式清洁机架，包括：内部空间，清洁介质在该内部空间中流动；开口部件，该开口部件构造成与清洗对象接触：进气导管，该进气导管构造成将外界空气引入到内部空间中；抽吸端口，该抽吸端口对从进气导管引入到内部空间中的空气抽真空，并且导致在内部空间中产生循环空气流；流路限制构件，该流路限制构件调节循环空气流在内部空间内的循环轴线；清洁介质排出口，该清洁介质排出口与循环空气流的循环流路外部连通，并且被构造成将清洁介质从循环流路排出到外部；和清洁介质导引构件，该清洁介质导引构件将清洁介质引导到清洁介质排出口。

公开(公告)号：CN103130356A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201210597917.5

申请日：2012-11-27

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 铃木章悟 ,  冈田典晃 ,  村田省藏 ,  宫泽秀之

IPC: C02F9/04 ,  C02F1/72 ,  C02F1/74 ,  C02F1/78

CPC classification number: C02F1/025 ,  C02F1/20 ,  C02F1/444 ,  C02F1/722 ,  C02F1/725 ,  C02F1/727 ,  C02F1/74 ,  C02F1/78 ,  C02F2101/16 ,  C02F2101/30 ,  C02F2103/28 ,  C02F2103/36 ,  C02F2209/005 ,  C02F2209/02 ,  C02F2209/08 ,  C02F2209/16 ,  C02F2209/18 ,  C02F2209/40 ,  C02F2301/066 ,  C02F2301/08

Abstract: 本发明公开了一种废液处理装置和方法，其中，第一分解反应部分和第二分解反应部分分别装填有彼此不同类型的催化剂，或者，就以上各部分而言，也可以仅仅在第二分解反应部分装填催化剂。此外，第一分解反应部分的流体出口侧和第二分解反应部分的流体入口侧直接彼此连通而没有变窄。

公开(公告)号：CN1264116A

公开(公告)日：2000-08-23

申请号：CN00104193.2

申请日：2000-02-09

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 村田省藏 ,  田嶋行利

IPC: G11B7/26 ,  B29C33/38 ,  B29L17/00

CPC classification number: G11B7/263 ,  B29C45/2632 ,  B29C2045/2636 ,  G11B7/007 ,  G11B7/261 ,  Y10T428/21 ,  Y10T428/26

Abstract: 一种光盘及其生产方法,特别是一种用于模制能够与市场上的CD(光盘)播放器具有较高兼容性的光盘的半导体光盘基底的压模、一种生产压模的方法、一种生产光盘基底的方法、一种生产光盘的方法以及一种光盘基底和一种光盘。本发明增强了转印能力并提高光盘基底模制周期的生产节拍,允许在转印面上形成细微的结构图案,并不需要改变已有的模具设备。当通过旋涂将颜料涂剂填充到光盘上的导向槽中时,在其径向方向上具有基本一致的结构。

公开(公告)号：CN103157405B

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：CN201210544663.0

申请日：2012-12-14

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 铃木章悟 ,  宫泽秀之 ,  冈田典晃 ,  村田省藏 ,  武藤敏之 ,  山田茂 ,  中岛牧人 ,  宇津木绫 ,  早川谦一 ,  青木公生 ,  座间优

IPC: B01J3/00 ,  B01J3/04 ,  B01J8/06

CPC classification number: C02F1/725 ,  B01J3/008 ,  B01J3/03 ,  B01J3/042 ,  B01J8/0005 ,  B01J2219/00085 ,  B01J2219/00159 ,  C02F1/008 ,  C02F1/02 ,  C02F1/444 ,  C02F1/72 ,  C02F1/722 ,  C02F1/74 ,  C02F1/78 ,  C02F2101/16 ,  C02F2103/28 ,  C02F2201/003 ,  C02F2209/001 ,  C02F2209/005 ,  C02F2209/03 ,  C02F2301/066

Abstract: 内部管设置有突出部分，该突出部分从该管的外周表面突出，处于在管的外周表面的整个面积延伸的位置，其中管的外周表面是内部管的纵向的整个面积中位于外部管外面的区域中的部分，内部管插入外部管的出口侧壁的通孔中，并且内部管的突出部分通过出口接头沿着出口管的轴向被压向出口侧壁，并且因此，内部管由出口侧壁悬挑。

公开(公告)号：CN102553862B

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：CN201110462247.1

申请日：2011-11-17

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 渕上明弘 ,  冈本洋一 ,  塚原兴治 ,  村田省藏 ,  种子田裕介

IPC: B08B5/04

CPC classification number: B08B7/02

Abstract: 本发明公开了一种干式清洁箱，其包括箱部分，箱部分包含与清洁目标接触的开口部分，把外部空气吹入内部空间的空气输入管；通过抽吸经空气输入管引入到内部空间的空气，在内部空间产生循环空气流的抽吸口；多孔单元，其构造成从清洁目标上除去的物体经多孔单元至吸入口侧；以及路径限制元件，其形成圆柱形，沿着循环空气流的中心轴方向延伸，并被构造成使得圆柱形的内部与作为抽吸路径的抽吸口联通。

公开(公告)号：CN103567192A

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：CN201310301359.8

申请日：2013-07-18

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 种子田裕介 ,  渕上明弘 ,  塚原兴治 ,  村上格二 ,  村田省藏

IPC: B08B7/00

CPC classification number: B08B5/04 ,  B08B7/02 ,  B08B7/04 ,  B08B15/04 ,  B08B7/00

Abstract: 本发明涉及一种干式清洁机架，包括：内部空间，清洁介质在该内部空间中流动；开口部件，该开口部件构造成与清洗对象接触：进气导管，该进气导管构造成将外界空气引入到内部空间中；抽吸端口，该抽吸端口对从进气导管引入到内部空间中的空气抽真空，并且导致在内部空间中产生循环空气流；流路限制构件，该流路限制构件调节循环空气流在内部空间内的循环轴线；清洁介质排出口，该清洁介质排出口与循环空气流的循环流路外部连通，并且被构造成将清洁介质从循环流路排出到外部；和清洁介质导引构件，该清洁介质导引构件将清洁介质引导到清洁介质排出口。

公开(公告)号：CN101681660B

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN200980000325.7

申请日：2009-03-12

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 阿万康知 ,  小名木伸晃 ,  村田省藏 ,  杉本泰规 ,  德丸春树 ,  小出大一 ,  高野义道

IPC: G11B25/04 ,  G11B17/028

CPC classification number: G11B17/0282 ,  G11B17/0284 ,  G11B23/0035

Abstract: 一种光盘旋转设备包含挠性光盘，在该挠性光盘中信息是能够记录的；转盘，该转盘上固定有光盘；转轴，该转轴使固定在所述转盘上的光盘旋转；以及稳定器，该稳定器使旋转光盘稳定。在光盘旋转设备中，旋转传送设备经由转盘将所述转轴的旋转传送到光盘，光盘固定设备固定所述光盘以使所述光盘沿着所述光盘的径向方向从所述光盘的旋转中心能够弹性变形。

公开(公告)号：CN1516146A

公开(公告)日：2004-07-28

申请号：CN200310103671.2

申请日：2000-02-09

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 村田省藏 ,  田行利

IPC: G11B7/26 ,  G11B7/007 ,  G11B7/24 ,  B29C33/00

CPC classification number: G11B7/263 ,  B29C45/2632 ,  B29C2045/2636 ,  G11B7/007 ,  G11B7/261 ,  Y10T428/21 ,  Y10T428/26

Abstract: 一种光盘及其生产方法，特别是一种用于模制能够与市场上的CD(光盘)播放器具有较高兼容性的光盘的半导体光盘基底的压模、一种生产压模的方法、一种生产光盘基底的方法、一种生产光盘的方法以及一种光盘基底和一种光盘。本发明增强了转印能力并提高光盘基底模制周期的生产节拍，允许在转印面上形成细微的结构图案，并不需要改变已有的模具设备。当通过旋涂将颜料涂剂填充到光盘上的导向槽中时，在其径向方向上具有基本一致的结构。

公开(公告)号：CN104066522A

公开(公告)日：2014-09-24

申请号：CN201280067839.6

申请日：2012-12-26

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 渕上明弘 ,  种子田裕介 ,  冈本洋一 ,  村田省藏 ,  塚原兴治

IPC: B08B5/02 ,  B41F35/00 ,  H05K3/34

CPC classification number: B41F35/005 ,  B08B5/02 ,  B08B7/02 ,  B41P2235/27 ,  H05K3/1225

Abstract: 公开一种干洗设备，包括：第一清洗单元(22)，通过在具有第一开口(10E)的第一壳体(34)内形成第一旋转气流以及使清洗介质(PC)与附着到第一开口(10E)的要清洗物体(8)撞击来进行清洗，第一清洗单元(22)设置在要清洗物体的第一表面(8a)；以及第二清洗单元(24)，通过在具有第二开口(10E)的第二壳体(36)内形成第二旋转气流以及使第二清洗介质(PC)与附着到第二开口(10E)的要清洗物体(8)撞击来进行清洗，第二清洗单元(24)设置在要清洗物体的第二表面(8b)，使得第一开口(10E)和第二开口(10E)彼此面对，其中对要清洗物体(8)的第一表面(8a)和第二表面(8b)进行清洗。