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公开(公告)号：CN101278404A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200680036822.9
申请日：2006-09-28
Applicant: 株式会社理光
IPC: H01L29/786 , H01L51/05 , H01L51/30
CPC classification number: H01L51/0537 , H01L27/283 , H01L51/0035
Abstract: 一种晶体管元件，其层叠有：在基板上使用有机半导体层的晶体管、接触该有机半导体层的层间绝缘膜和经由层间绝缘膜中设置的通孔与所述晶体管电接触的上部电极，其中所述层间绝缘膜包括有机材料和颗粒的混合物。
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公开(公告)号：CN101278404B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200680036822.9
申请日：2006-09-28
Applicant: 株式会社理光
IPC: H01L29/786 , H01L51/05 , H01L51/30
CPC classification number: H01L51/0537 , H01L27/283 , H01L51/0035
Abstract: 一种晶体管元件，其层叠有：在基板上使用有机半导体层的晶体管、接触该有机半导体层的层间绝缘膜和经由层间绝缘膜中设置的通孔与所述晶体管电接触的上部电极，其中所述层间绝缘膜包括有机材料和颗粒的混合物。
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公开(公告)号：CN101176394B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN200680016464.5
申请日：2006-03-02
Applicant: 株式会社理光
IPC: H05K3/46 , G02F1/1368 , G02F1/167
CPC classification number: G02F1/136227 , H05K3/1225 , H05K3/125 , H05K3/4007 , H05K3/4069 , H05K3/4647 , H05K3/4664 , H05K2201/0367 , H05K2203/0126 , H05K2203/013 , H05K2203/1105 , Y10T29/49128 , Y10T29/49131 , Y10T29/49133 , Y10T29/49144 , Y10T29/49155 , Y10T29/49826
Abstract: 本发明公开一种多层布线结构的制造方法。所述方法包括在第一金属布线元件上形成通孔柱的步骤；使用非喷射区域略大于通孔柱头部的丝网掩膜，在第一金属布线元件上印刷夹层绝缘膜的步骤，使得夹层绝缘膜的上表面位于低于通孔柱头部的高度，同时非喷射区域基本上与通孔柱的头部对齐；固化夹层绝缘膜的步骤；在夹层绝缘膜上形成第二金属布线元件的步骤，所述第二金属布线元件与通孔柱接触，使得第一金属布线元件和第二金属布线元件通过通孔柱而连接。
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公开(公告)号：CN107111145B
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201680005434.8
申请日：2016-01-12
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种头戴式显示装置(1)，包括：配置为显示图像的图像显示部(10)、配置为将图像引导到显示装置(1)的穿戴者的眼睛的光学单元(20,30,50)、配置为检测外部光的光强度(A)的光强度检测器(60)、配置为改变透射率以调整到达穿戴者眼睛的外部光的强度(B)的调光过滤器(40)、以及配置为基于由光强检测器(60)获得的外部光的强度(A)调整调光过滤器(40)的透射率和图像显示部(10)的光源的光强度(C)的控制器(70)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107111145A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201680005434.8
申请日：2016-01-12
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G09G5/10 , G02B27/017 , G02B27/0172 , G02B2027/0118 , G02B2027/014 , G02B2027/0178 , G02F1/15 , G09G3/001 , G09G2320/06 , G09G2320/0626 , G09G2320/066 , G09G2330/021 , G09G2354/00 , G09G2360/144 , H04N5/64
Abstract: 一种头戴式显示装置(1)，包括：配置为显示图像的图像显示部(10)、配置为将图像引导到显示装置(1)的穿戴者的眼睛的光学单元(20,30,50)、配置为检测外部光的光强度(A)的光强度检测器(60)、配置为改变透射率以调整到达穿戴者眼睛的外部光的强度(B)的调光过滤器(40)、以及配置为基于由光强检测器(60)获得的外部光的强度(A)调整调光过滤器(40)的透射率和图像显示部(10)的光源的光强度(C)的控制器(70)。
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公开(公告)号：CN101223645A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200680026297.2
申请日：2006-05-09
Applicant: 株式会社理光
IPC: H01L29/786 , H01L51/05
CPC classification number: H01L51/102 , H01L27/3244 , H01L51/0012 , H01L51/0022 , H01L51/0037 , H01L51/0545
Abstract: 本发明公开了一种有机薄膜晶体管。该有机薄膜晶体管包括基底，栅电极，栅绝缘膜，在栅绝缘膜上的源电极，在栅绝缘膜上与源电极间隔的漏电极，和有机半导体层。栅绝缘膜包括其表面能通过能量沉积改变的电极形成区域，电极形成区域的一个或多个角具有钝角形状，并且源电极和/或漏电极形成在电极形成区域中以具有与具有钝角形状的角的电极形成区域基本上相同的角形状。
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公开(公告)号：CN101176394A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200680016464.5
申请日：2006-03-02
Applicant: 株式会社理光
IPC: H05K3/46 , G02F1/1368 , G02F1/167
CPC classification number: G02F1/136227 , H05K3/1225 , H05K3/125 , H05K3/4007 , H05K3/4069 , H05K3/4647 , H05K3/4664 , H05K2201/0367 , H05K2203/0126 , H05K2203/013 , H05K2203/1105 , Y10T29/49128 , Y10T29/49131 , Y10T29/49133 , Y10T29/49144 , Y10T29/49155 , Y10T29/49826
Abstract: 本发明公开一种多层布线结构的制造方法。所述方法包括在第一金属布线元件上形成通孔柱的步骤；使用非喷射区域略大于通孔柱头部的丝网掩膜，在第一金属布线元件上印刷夹层绝缘膜的步骤，使得夹层绝缘膜的上表面位于低于通孔柱头部的高度，同时非喷射区域基本上与通孔柱的头部对齐；固化夹层绝缘膜的步骤；在夹层绝缘膜上形成第二金属布线元件的步骤，所述第二金属布线元件与通孔柱接触，使得第一金属布线元件和第二金属布线元件通过通孔柱而连接。
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公开(公告)号：CN110291443A
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201880011561.8
申请日：2018-02-15
Applicant: 株式会社理光
IPC: G02B27/01
Abstract: 本公开的一个目的是提供即使在执行透射率控制时也在抑制耐久性降低的同时提高响应速度的显示装置(1)。显示装置(1)包括显示单元(10)，多个调光装置(140)，以及控制器(9)。所述显示单元(10)配置为附接到用户的头部(A)，以向用户(A)显示信息。所述多个调光装置(140)的每一个配置为改变透射率，以调节从外部入射的光(L')的强度。所述控制器(9)配置为独立地控制多个调光装置(140)的透射率。
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公开(公告)号：CN101223645B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200680026297.2
申请日：2006-05-09
Applicant: 株式会社理光
IPC: H01L29/786 , H01L51/05
CPC classification number: H01L51/102 , H01L27/3244 , H01L51/0012 , H01L51/0022 , H01L51/0037 , H01L51/0545
Abstract: 本发明公开了一种有机薄膜晶体管。该有机薄膜晶体管包括基底，栅电极，栅绝缘膜，在栅绝缘膜上的源电极，在栅绝缘膜上与源电极间隔的漏电极，和有机半导体层。栅绝缘膜包括其表面能通过能量沉积改变的电极形成区域，电极形成区域的一个或多个角具有钝角形状，并且源电极和/或漏电极形成在电极形成区域中以具有与具有钝角形状的角的电极形成区域基本上相同的角形状。
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