公开(公告)号：CN101687389A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200880022450.3

申请日：2008-06-27

Applicant: 株式会社爱发科 ,  宇部兴宇株式会社

Inventor： 藤长彻志 ,  高木牧子 ,  桥本征典 ,  浅利伸 ,  大山隆治

IPC: B32B9/00 ,  C23C16/42

CPC classification number: C23C16/345 ,  Y10T428/269

Abstract: 本发明的树脂基底具有树脂层和形成在所述树脂层的表面上的表面层，其中所述表面层是包含作为主要组分的氮化硅并且是通过化学气相沉积法而沉积的层，并且在所述树脂层和所述表面层之间的界面上，其上百分比从80％改变为20％的界面区域具有不大于25nm的厚度，其中在所述表面层中的最大氮浓度和在树脂层中的稳态氮浓度之间的差被当作100％。表面层的平均表面粗糙度(Ra)为不大于1nm。树脂基底具有水蒸汽阻隔和表面平坦性的性质。

公开(公告)号：CN101466867B

公开(公告)日：2011-03-23

申请号：CN200780022068.8

申请日：2007-04-09

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 高木牧子 ,  伊藤博巳 ,  斋藤一也 ,  藤本秀树

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/54 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4488 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/45591

Abstract: 本发明提供一种催化体化学气相沉积装置，其对由处理室内部构成部件及处理室内壁等释放的H2O等释放气体和由附着沉积物所产生的粒子采取应对措施，可以进行希望膜质的成膜。其特征在于，具备：在处理室1内配置的基板4、与基板4对置的喷淋板7、使来自喷淋板7的原料气体活化的金属钨丝等构成的催化体5，并具有以下构成：将催化体5设置于基板4和喷淋板7之间，并且用筒状周壁23围绕处理室1内的基板4和喷淋板7对置而形成的空间，除此之外，还设置有真空排气装置，以使筒状周壁23的内侧即成膜区域26内的压力比其他区域的压力高。

公开(公告)号：CN101466867A

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200780022068.8

申请日：2007-04-09

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 高木牧子 ,  伊藤博巳 ,  斋藤一也 ,  藤本秀树

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/54 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4488 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/45591

Abstract: 本发明提供一种催化体化学气相沉积装置，其对由处理室内部构成部件及处理室内壁等释放的H2O等释放气体和由附着沉积物所产生的粒子采取应对措施，可以进行希望膜质的成膜。其特征在于，具备：在处理室1内配置的基板4、与基板4对置的喷淋板7、使来自喷淋板7的原料气体活化的金属钨丝等构成的催化体5，并具有以下构成：将催化体5设置于基板4和喷淋板7之间，并且用筒状周壁23围绕处理室1内的基板4和喷淋板7对置而形成的空间，除此之外，还设置有真空排气装置，以使筒状周壁23的内侧即成膜区域26内的压力比其他区域的压力高。