公开(公告)号：CN1977363A

公开(公告)日：2007-06-06

申请号：CN200580021978.5

申请日：2005-06-28

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 高桥诚一 ,  宫谷武尚 ,  林秀夫 ,  佐藤真幸 ,  堤贤吾 ,  小野洋平

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67748 ,  C23C14/566 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67751

Abstract: 本发明提供一种处理室的更换容易的真空处理装置，本发明的真空处理装置(1)具有处理室(20)和输出输入室(10)。输出输入室(10)固定在处理室(20)的上方位置。另一方面，处理室(20)可通过升降机构(50)下降，所以若使处理室(20)下降，则处理室(20)从输出输入室(10)分离。此外，在处理室(20)上连接有搬运机构(30)，所以在从输出输入室(10)拆下处理室(20)后，也容易搬运处理室(20)。这样，根据本发明，与以往相比更换处理室(20)的操作变得简单容易。

公开(公告)号：CN100492599C

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：CN200580021978.5

申请日：2005-06-28

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 高桥诚一 ,  宫谷武尚 ,  林秀夫 ,  佐藤真幸 ,  堤贤吾 ,  小野洋平

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67748 ,  C23C14/566 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67751

Abstract: 本发明提供一种处理室的更换容易的真空处理装置，本发明的真空处理装置(1)具有处理室(20)和输出输入室(10)。输出输入室(10)固定在处理室(20)的上方位置。另一方面，处理室(20)可通过升降机构(50)下降，所以若使处理室(20)下降，则处理室(20)从输出输入室(10)分离。此外，在处理室(20)上连接有搬运机构(30)，所以在从输出输入室(10)拆下处理室(20)后，也容易搬运处理室(20)。这样，根据本发明，与以往相比更换处理室(20)的操作变得简单容易。