公开(公告)号：CN101484608A

公开(公告)日：2009-07-15

申请号：CN200780023547.1

申请日：2007-06-07

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 林信博 ,  广野贵启 ,  多田勋 ,  中塚笃 ,  小松研二

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/24

CPC classification number: C23C14/562 ,  C23C14/02 ,  C23C14/5826

Abstract: 本发明提供一种能够在不降低生产效率的情况下抑制薄膜上产生受热影响区域的卷绕式真空蒸镀装置。本发明涉及的卷绕式真空蒸镀装置(10)包括放卷辊(13)、卷绕从放卷辊(13)放出的薄膜(12)的卷绕辊(15)、配置在放卷辊(13)和卷绕辊(15)之间紧贴薄膜(12)以便对该薄膜进行冷却的冷却辊(14)、与冷却辊(14)相向配置将蒸镀材料蒸镀于薄膜(12)上的蒸发源(16)以及配置在放卷辊(13)和蒸发源(16)之间向行走的薄膜(12)照射电子束的电子束照射器(21)；电子束照射器(21)具有通过通电加热放出电子的丝极(31)和向该丝极(31)供应直流电流的直流发生机构。

公开(公告)号：CN101484608B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200780023547.1

申请日：2007-06-07

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 林信博 ,  广野贵启 ,  多田勋 ,  中塚笃 ,  小松研二

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/24

CPC classification number: C23C14/562 ,  C23C14/02 ,  C23C14/5826

Abstract: 本发明提供一种能够在不降低生产效率的情况下抑制薄膜上产生受热影响区域的卷绕式真空蒸镀装置。本发明涉及的卷绕式真空蒸镀装置(10)包括放卷辊(13)、卷绕从放卷辊(13)放出的薄膜(12)的卷绕辊(15)、配置在放卷辊(13)和卷绕辊(15)之间紧贴薄膜(12)以便对该薄膜进行冷却的冷却辊(14)、与冷却辊(14)相向配置将蒸镀材料蒸镀于薄膜(12)上的蒸发源(16)以及配置在放卷辊(13)和蒸发源(16)之间向行走的薄膜(12)照射电子束的电子束照射器(21)；电子束照射器(21)具有通过通电加热放出电子的丝极(31)和向该丝极(31)供应直流电流的直流发生机构。