显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN100422798C

    公开(公告)日:2008-10-01

    申请号:CN200410004414.8

    申请日:2004-02-19

    CPC classification number: H01L29/4908 H01L27/12 H01L27/1214

    Abstract: 本发明提供一种显示装置,能避免在薄膜晶体管中其绝缘膜对于多晶硅层的界面的能级变高,并且,可以避免该绝缘膜中的固定电荷增多。该显示装置是一种在绝缘基板上具备薄膜晶体管的显示装置。上述薄膜晶体管具有半导体层、栅极电极、在上述半导体层和栅极电极之间设置的栅极绝缘膜。上述栅极绝缘膜,至少具有1层由沉积法沉积的沉积膜。与上述半导体层之间不存在由沉积法沉积的其他的沉积膜地形成的一个沉积膜中的碳浓度,具有靠近上述半导体层的一侧比远离上述半导体层的一侧更小的分布。

    显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN1523412A

    公开(公告)日:2004-08-25

    申请号:CN200410004414.8

    申请日:2004-02-19

    CPC classification number: H01L29/4908 H01L27/12 H01L27/1214

    Abstract: 本发明提供一种显示装置,能避免在薄膜晶体管中其绝缘膜对于多晶硅层的界面的能级变高,并且,可以避免该绝缘膜中的固定电荷增多。该显示装置是一种在绝缘基板上具备薄膜晶体管的显示装置。上述薄膜晶体管具有半导体层、栅极电极、在上述半导体层和栅极电极之间设置的栅极绝缘膜。上述栅极绝缘膜,至少具有1层由沉积法沉积的沉积膜。与上述半导体层之间不存在由沉积法沉积的其他的沉积膜地形成的一个沉积膜中的碳浓度,具有靠近上述半导体层的一侧比远离上述半导体层的一侧更小的分布。

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