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公开(公告)号：CN101398589B
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200810166378.3
申请日：2008-09-26
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: G02F1/1362 , H01L27/12 , H01L23/522 , H01L23/485
CPC classification number: G02F1/1368 , G02F1/133345 , G02F1/1337 , G02F2201/50 , H01L27/124 , H01L27/1288
Abstract: 本发明提供一种液晶显示装置。图像信号线(107)延伸到端子部。图像信号线(107)在端子部以外由无机钝化膜(108)和有机钝化膜(109)覆盖。端子部为了取得导通，在有机钝化膜(109)和无机钝化膜(108)形成端子部通孔。端子部为了保护图像信号线(107)，由ITO膜(120)覆盖。端子部通孔的有机钝化膜(109)的锥角θ为35度以下，并且端子部通孔周边的有机钝化膜(109)的厚度为300nm～600nm，从而防止取向膜的切屑进入端子部，防止导通不良。本发明能够在对TFT衬底使用有机钝化膜的液晶显示装置中，解决取向膜的切屑进入端子部而引起导通不良的现象。
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公开(公告)号：CN101022092A
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：CN200710005589.4
申请日：2007-02-13
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L21/84 , H01L21/768 , H01L21/3213 , G02F1/1362
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/136227
Abstract: 本发明提供一种显示装置的制造方法，在具有反射区域和透射区域的液晶显示装置中，抑制工序数增加地制造反射电极和透射电极。对具有透射区域和反射区域的像素，连续层叠形成反射电极的金属膜和形成透射电极的透明导电膜。将抗蚀剂膜曝光显影，形成第1图案，同时蚀刻金属层和透明导电膜。然后通过灰化在抗蚀剂膜形成第2图案，蚀刻金属层。另外，利用有机树脂层作为形成接触孔的掩模。
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公开(公告)号：CN101022092B
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200710005589.4
申请日：2007-02-13
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L21/84 , H01L21/768 , H01L21/3213 , G02F1/1362
CPC classification number: G02F1/133555 , G02F1/136227
Abstract: 本发明提供一种显示装置的制造方法，在具有反射区域和透射区域的液晶显示装置中，抑制工序数增加地制造反射电极和透射电极。对具有透射区域和反射区域的像素，连续层叠形成反射电极的金属膜和形成透射电极的透明导电膜。将抗蚀剂膜曝光显影，形成第1图案，同时蚀刻金属层和透明导电膜。然后通过灰化在抗蚀剂膜形成第2图案，蚀刻金属层。另外，利用有机树脂层作为形成接触孔的掩模。
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公开(公告)号：CN101398589A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200810166378.3
申请日：2008-09-26
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: G02F1/1362 , H01L27/12 , H01L23/522 , H01L23/485
CPC classification number: G02F1/1368 , G02F1/133345 , G02F1/1337 , G02F2201/50 , H01L27/124 , H01L27/1288
Abstract: 本发明提供一种液晶显示装置。图像信号线(107)延伸到端子部。图像信号线(107)在端子部以外由无机钝化膜(108)和有机钝化膜(109)覆盖。端子部为了取得导通，在有机钝化膜(109)和无机钝化膜(108)形成端子部通孔。端子部为了保护图像信号线(107)，由ITO膜(120)覆盖。端子部通孔的有机钝化膜(109)的锥角θ为35度以下，并且端子部通孔周边的有机钝化膜(109)的厚度为300nm～600nm，从而防止取向膜的切屑进入端子部，防止导通不良。本发明能够在对TFT衬底使用有机钝化膜的液晶显示装置中，解决取向膜的切屑进入端子部而引起导通不良的现象。
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