公开(公告)号：CN100465784C

公开(公告)日：2009-03-04

申请号：CN02151388.0

申请日：2002-11-20

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 横山义之 ,  服部孝司

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32139 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/146

Abstract: 本发明提供一种负型感放射线组合物，其适用于包含ArF受激准分子激光波长193nm的远紫外线的曝光，可避免因显像液的渗透所造成的膨润或图案的线间残留抗蚀膜而使解像度劣化，可形成高解像度的图案。本发明解决上述问题的方法是提供一种感放射线组合物，其包含在酯部上具有γ-羟基羧酸的丙烯酸酯聚合物及酸产生剂。

公开(公告)号：CN1428654A

公开(公告)日：2003-07-09

申请号：CN02151388.0

申请日：2002-11-20

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 横山义之 ,  服部孝司

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32139 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/146

Abstract: 本发明提供一种负型感放射线组合物，其适用于包含ArF受激准分子激光波长193nm的远紫外线的曝光，可避免因现像液的渗透所造成的膨润或图案的线间残留抗蚀膜而使解像度劣化，可形成高解像度的图案。本发明解决上述问题的方法是提供一种感放射线组合物，其包含在酯部上具有γ－羟基羧酸的丙烯酸酯聚合物及酸产生剂。