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公开(公告)号：CN104981271A
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201380068001.3
申请日：2013-10-10
Applicant: 株式会社日立制作所 , 国立大学法人北海道大学
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61B6/542 , A61N5/1049 , A61N5/1067 , A61N5/1071 , A61N5/1075 , A61N5/1077 , A61N2005/1061 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , F04C2270/041
Abstract: 粒子束治疗装置具备：粒子束产生装置，其产生粒子束；照射区域形成装置，其被设置在治疗室内，用于对目标照射粒子束；粒子束输送系统(6)，其将粒子束产生装置与照射区域形成装置连接；X射线拍摄装置，其被设置在治疗室内，照射X射线来拍摄目标的位置；剂量测量器(8)，其被设置在照射区域形成装置内且粒子束经过的位置；以及控制装置(400)，其在治疗时间中照射了X射线时，进行控制以便从剂量测量器(8)的测量结果中去除X射线的测量结果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105050659A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201380071654.7
申请日：2013-10-10
Applicant: 株式会社日立制作所 , 国立大学法人北海道大学
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1043 , A61N5/10 , A61N5/1031 , A61N5/1045 , A61N5/1065 , A61N5/1077 , A61N5/1081 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
Abstract: 本发明的粒子束治疗系统具备由能量吸收体、第一准直器以及第二准直器构成的向短射程区域的照射补偿装置。所述照射补偿装置的特征在于，具备所述能量吸收体、第一准直器以及第二准直器的装卸机构。第一准直器被配置在射束直径小的上流侧，由此能够抑制所述补偿装置的宽度，有助于所述补偿装置的小型和轻量化。第二准直器被配置在下游侧，有助于半阴影的改善。
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公开(公告)号：CN104941076A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510085293.2
申请日：2015-02-16
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1077 , A61N5/103 , A61N5/1043 , A61N5/1067 , A61N5/1071 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明提供一种能够缩短电荷粒子束向照射对象的照射时间的电荷粒子束照射系统。具备：电荷粒子束产生装置，其加速地射出电荷粒子束；照射装置，其具有扫描电荷粒子束的扫描电磁铁，向照射对象的多个照射点射出加速后的电荷粒子束；射束射线量测量器，其求出通过照射装置内的电荷粒子束的射线量；射束位置测量器，其求出通过扫描电磁铁扫描的电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或双方。
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公开(公告)号：CN105050659B
公开(公告)日：2018-04-27
申请号：CN201380071654.7
申请日：2013-10-10
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1043 , A61N5/10 , A61N5/1031 , A61N5/1045 , A61N5/1065 , A61N5/1077 , A61N5/1081 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
Abstract: 本发明的粒子束治疗系统具备由能量吸收体、第一准直器以及第二准直器构成的向短射程区域的照射补偿装置。所述照射补偿装置的特征在于，具备所述能量吸收体、第一准直器以及第二准直器的装卸机构。第一准直器被配置在射束直径小的上流侧，由此能够抑制所述补偿装置的宽度，有助于所述补偿装置的小型和轻量化。第二准直器被配置在下游侧，有助于半阴影的改善。
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公开(公告)号：CN104941076B
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201510085293.2
申请日：2015-02-16
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1077 , A61N5/103 , A61N5/1043 , A61N5/1067 , A61N5/1071 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明提供一种能够缩短电荷粒子束向照射对象的照射时间的电荷粒子束照射系统。具备：电荷粒子束产生装置，其加速地射出电荷粒子束；照射装置，其具有扫描电荷粒子束的扫描电磁铁，向照射对象的多个照射点射出加速后的电荷粒子束；射束射线量测量器，其求出通过照射装置内的电荷粒子束的射线量；射束位置测量器，其求出通过扫描电磁铁扫描的电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或双方。
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公开(公告)号：CN104981271B
公开(公告)日：2017-09-15
申请号：CN201380068001.3
申请日：2013-10-10
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G21K1/00
CPC classification number: A61B6/542 , A61N5/1049 , A61N5/1067 , A61N5/1071 , A61N5/1075 , A61N5/1077 , A61N2005/1061 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , F04C2270/041
Abstract: 粒子束治疗装置具备：粒子束产生装置，其产生粒子束；照射区域形成装置，其被设置在治疗室内，用于对目标照射粒子束；粒子束输送系统(6)，其将粒子束产生装置与照射区域形成装置连接；X射线拍摄装置，其被设置在治疗室内，照射X射线来拍摄目标的位置；剂量测量器(8)，其被设置在照射区域形成装置内且粒子束经过的位置；以及控制装置(400)，其在治疗时间中照射了X射线时，进行控制以便从剂量测量器(8)的测量结果中去除X射线的测量结果。
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