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公开(公告)号：CN85108112B
公开(公告)日：1987-11-04
申请号：CN85108112
申请日：1985-11-05
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G21F9/00
CPC classification number: G21C17/0225 , C23C8/10 , C23C8/16 , C23C8/18 , G21F9/004 , Y10S376/90
Abstract: 对与含有放射性物质的高压高温反应堆水相接触的金属结构元件，采用在暴露于反应堆水中之前即预先在其表面上形成氧化膜的方法降低核电站中的放射性，其特征为将所述的结构元件置于高温的环境介质中作第一步加热氧化处理，然后进一步再在比上述更高氧化能力的环境介质中进行第二步处理，由此形成比第一步氧化处理后得到的更为密实的氧化膜，本发明即藉此而实现显著地降低核电站中的放射性。
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公开(公告)号：CN85108112A
公开(公告)日：1986-06-10
申请号：CN85108112
申请日：1985-11-05
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G21C17/0225 , C23C8/10 , C23C8/16 , C23C8/18 , G21F9/004 , Y10S376/90
Abstract: 对与含有放射性物质的高压高温反应堆水相接触的金属结构元件，采用在暴露于反应堆水中之前即预先在其表面上形成氧化膜的方法降低核电站中的放射性，其特征为将所述的结构元件置于高温的环境介质中作第一步加热氧化处理，然后进一步再在比上述更高氧化能力的环境介质中进行第二步处理，由此形成比第一步氧化处理后得到的更为密实的氧化膜，本发明即藉此而实现显著地降低核电站中的放射性。
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公开(公告)号：CN1093246C
公开(公告)日：2002-10-23
申请号：CN96123393.1
申请日：1996-10-04
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: F25B15/00
CPC classification number: C23C8/12 , C09K5/047 , C23F11/187 , F25B15/02 , F25B15/06 , F25B47/003 , F28F19/06 , Y02A30/277 , Y02B30/62 , Y02P20/124 , Y10S165/513
Abstract: 一种用水作制冷剂，用卤族化合物作吸收剂的吸收式制冷机，其特征在于厚度为0.02-5.0μm的氧化膜形成在热交换器和高温再生器中的至少一个的表面上。以及一种用水作制冷剂，卤族化合物作吸收剂的吸收式制冷机的热交换器的生产方法，其特征在于在200-800℃的温度下氧化热交换器和高温再生器中的至少一个的表面，同时调节加热温度和加热时间，以使按照P＝T(5+log t)所得到的参数(P)值为3.5-6.0×103，其中T表示加热温度(°K)，t表示加热时间(分)。
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公开(公告)号：CN1161437A
公开(公告)日：1997-10-08
申请号：CN96123393.1
申请日：1996-10-04
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: F25B15/00
CPC classification number: C23C8/12 , C09K5/047 , C23F11/187 , F25B15/02 , F25B15/06 , F25B47/003 , F28F19/06 , Y02A30/277 , Y02B30/62 , Y02P20/124 , Y10S165/513
Abstract: 一种用水作制冷剂，用卤族化合物作吸收剂的吸收式制冷机，其特征在于厚度为0.02-5.0nm的氧化膜形成在热交换器和高温再生器中的至少一个的表面上。以及一种用水作制冷剂，卤族化合物作吸收剂的吸收式制冷机的热交换器的生产方法，其特征在于在200-800℃的温度下氧化热交换器和高温再生器中的至少一个的表面，同时调节加热温度和加热时间，以使按照P＝T(5+logt)所得到的参数(P)值为3.5-6.0×103，其中T表示加热温度(°K)，t表示加热时间(分)。
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