公开(公告)号：CN1178206C

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：CN00137029.4

申请日：2000-11-24

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 二本正昭 ,  吉田和悦 ,  本多幸雄 ,  平山义幸 ,  菊川敦

IPC: G11B5/667

CPC classification number: G11B5/667 ,  G11B5/64 ,  G11B5/66 ,  Y10S428/90 ,  Y10T428/265

Abstract: 提供一种被改进以适合用于高密度磁记录的垂直磁记录介质和一种使用这种介质的磁记录装置。使双层垂直记录介质的磁性背层膜由多个层构成，并且用于保持垂直磁化的保持层(17)以及用于提高记录头的记录效率的层(13)和(15)在功能上彼此分开。而且，不包括保持层的软磁膜的磁化取向被限定为在盘的周边方向上，从而降低发生噪声的频率。

公开(公告)号：CN1303090A

公开(公告)日：2001-07-11

申请号：CN00137029.4

申请日：2000-11-24

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 二本正昭 ,  吉田和悦 ,  本多幸雄 ,  平山义幸 ,  菊川敦

IPC: G11B5/667

CPC classification number: G11B5/667 ,  G11B5/64 ,  G11B5/66 ,  Y10S428/90 ,  Y10T428/265

Abstract: 提供一种被改进以适合用于高密度磁记录的垂直磁记录介质和一种使用这种介质的磁记录装置。使双层垂直记录介质的磁性背层膜由多个层构成,并且用于保持垂直磁化的保持层(17)以及用于提高记录头的记录效率的层(13)和(15)在功能上彼此分开。而且,不包括保持层的软磁膜的磁化取向被限定为在盘的周边方向上,从而降低发生噪声的频率。

公开(公告)号：CN85103512B

公开(公告)日：1988-12-21

申请号：CN85103512

申请日：1985-05-02

Applicant: 株式会社日立制作所 ,  日立精机株式会社

Inventor： 二本正昭 ,  本多幸雄 ,  上坂保太郎 ,  吉田和悦

IPC: G11B5/66

Abstract: 所公开的材料是有关垂直磁性记录介质的。其中从属层是由硅及／或锗作为主要成分的材料所组成。该从属层沉积在一衬底上而由钴基合金所做成的垂直磁膜则沉积在该从属层上。这种垂直磁性记录介质其垂直磁性膜的ｅ轴定向度已经得到增强，且当衬底为非金属材料时。垂直磁性膜及衬底之间的结合强度也得到了加强。