公开(公告)号：CN1077000C

公开(公告)日：2002-01-02

申请号：CN95105559.3

申请日：1995-06-14

Applicant: 日立精机株式会社

Inventor： 樱庭肇

IPC: B23Q15/18

CPC classification number: B23Q15/18 ,  G05B2219/49206 ,  G05B2219/49219 ,  Y10S82/90 ,  Y10T82/10 ,  Y10T82/2552 ,  Y10T409/303976

Abstract: 用温度传感器(S1至S3、S1至S3)检测受发热源影响的机体(10、66、86)的温度变化。用该检测的温度变化运算与机床的热位移的时间常数有大致相同时间常数的温度变化。根据与该运算的温度变化相对应地变化的热位移修正加工误差。根据本发明的热位移修正方法及其装置，能高精度地修正热位移。本发明适用在加工中心和NC车床等的机床中。

公开(公告)号：CN1126130A

公开(公告)日：1996-07-10

申请号：CN95105559.3

申请日：1995-06-14

Applicant: 日立精机株式会社

Inventor： 樱庭肇

IPC: B23Q15/18

CPC classification number: B23Q15/18 ,  G05B2219/49206 ,  G05B2219/49219 ,  Y10S82/90 ,  Y10T82/10 ,  Y10T82/2552 ,  Y10T409/303976

Abstract: 用温度传感器(S1至S3、S1至S3)检测受发热源影响的机体(10、66、86)的温度变化。用该检测的温度变化运算与机床的热位移的时间常数有大致相同时间常数的温度变化。根据与该运算的温度变化相对应地变化的热位移修正加工误差。根据本发明的热位移修正方法及其装置，能高精度地修正热位移。本发明适用在加工中心和NC车床等的机床中。

公开(公告)号：CN85103512A

公开(公告)日：1986-12-24

申请号：CN85103512

申请日：1985-05-02

Applicant: 株式会社日立制作所 ,  日立精机株式会社

Inventor： 二本正昭本多幸雄上坂保太郎 ,  吉田和悦

IPC: G11B5/84

Abstract: 本发明是有关垂直磁性记录介质的。其中从属 层是由硅或锗作为主要成分的材料所组成。该从属 层沉积在一衬底上而由钴基合金所做成的垂直磁膜 则沉积在该从属层上。这种垂直磁性记录介质其垂 直磁性膜的c轴定向度已经得到增强，且当衬底为非 金属材料时，垂直磁性膜及衬底之间的结合强度也 得到了加强。

公开(公告)号：CN1217676A

公开(公告)日：1999-05-26

申请号：CN98800163.2

申请日：1998-02-18

Applicant: 日立精机株式会社

Inventor： 古正明

IPC: B23B31/28 ,  B23B31/163

CPC classification number: B23B31/16037 ,  B23B31/28 ,  B23B2260/062 ,  Y10T82/2552 ,  Y10T279/1906 ,  Y10T279/1926 ,  Y10T279/21 ,  Y10T279/3451

Abstract: 一种机床的电动卡盘,没有用于开闭卡盘夹持爪的特别的驱动装置,夹持力的变更容易,构造也简单。卡盘固定装置40为用于将卡盘主体20固定到主轴箱1的固定机构。定位销驱动机构42具有定位销43,并在上面形成活塞44。当向缸46供给加压空气时,定位销43的前端插入到定位孔41。驱动装入式马达4,使涡旋体17在主轴2回转的同时也回转,则朝径向驱动卡爪30,夹持、释放工件。

公开(公告)号：CN85103512B

公开(公告)日：1988-12-21

申请号：CN85103512

申请日：1985-05-02

Applicant: 株式会社日立制作所 ,  日立精机株式会社

Inventor： 二本正昭 ,  本多幸雄 ,  上坂保太郎 ,  吉田和悦

IPC: G11B5/66

Abstract: 所公开的材料是有关垂直磁性记录介质的。其中从属层是由硅及／或锗作为主要成分的材料所组成。该从属层沉积在一衬底上而由钴基合金所做成的垂直磁膜则沉积在该从属层上。这种垂直磁性记录介质其垂直磁性膜的ｅ轴定向度已经得到增强，且当衬底为非金属材料时。垂直磁性膜及衬底之间的结合强度也得到了加强。