公开(公告)号：CN101471218B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN200810108842.3

申请日：2008-05-29

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 川崎龙彦 ,  吉野史章 ,  大富淳生 ,  龟田伸一

IPC: H01J17/16 ,  H01J17/49

CPC classification number: H01J11/40 ,  H01J11/12

Abstract: 本发明涉及等离子体显示面板，降低响应速度的经时变化。在具有在覆盖用于气体放电的电极的电介质层上成膜的氧化镁膜的等离子体显示面板中，氧化镁膜的氧缺损量为3.0×1017～1.0×1020个/cm3，优选为3.0×1017～1.0×1018个/cm3。氧化镁膜的结晶取向性为(220)面取向。

公开(公告)号：CN101471218A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200810108842.3

申请日：2008-05-29

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 川崎龙彦 ,  吉野史章 ,  大富淳生 ,  龟田伸一

IPC: H01J17/02 ,  H01J17/49

CPC classification number: H01J11/40 ,  H01J11/12

Abstract: 本发明涉及等离子体显示面板，降低响应速度的经时变化。在具有在覆盖用于气体放电的电极的电介质层上成膜的氧化镁膜的等离子体显示面板中，氧化镁膜的氧缺损量为3.0×1017～1.0×1020个/cm3，优选为3.0×1017～1.0×1018个/cm3。氧化镁膜的结晶取向性为(220)面取向。