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公开(公告)号：CN101671084A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200910166765.1
申请日：2009-08-18
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明涉及一种液体处理装置，其区分适合臭氧处理的除去对象和适合后期的消毒工序的除去对象，通过各自的处理工序来达成水质目标，降低整体工序的运转成本。该液体处理装置具有注入与臭氧接触槽(2)的被处理水反应的臭氧气体的臭氧发生装置(3)、与臭氧接触槽(2)连接的流路的色度计(8)、与流路连接并具有紫外线灯的紫外线照射槽(6)或对流路注入氯剂的氯注入装置(11)、臭氧发生装置(3)、控制紫外线灯或氯注入装置(11)的控制的控制装置(9)进行输入的输入机构(10)，其中，根据来自输入机构(10)的第一水质项目的目标值和由水质计测量的第一水质项目的偏差来控制臭氧发生装置(3)的输出，基于来自输入机构(10)的第二水质项目的目标值，根据第一水质项目和紫外线照射量的关系或第一水质项目和氯剂的注入率的关系来控制紫外线灯的输出或氯注入装置(11)的氯剂的注入率。
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公开(公告)号：CN101514038A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910006467.6
申请日：2009-02-18
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: Y02W10/37
Abstract: 提供一种紫外线水处理设备及其紫外线照射量控制装置，能将照射可视光线后的供水端或者排水端的处理水中的微生物数处于目标数以下。包括：具备在内部的紫外线源和测量紫外线透射率的紫外线透射率测量装置的紫外线照射槽；设置在该紫外线照射槽上游侧，对被处理水的流量进行测量的流量计；设置在紫外线照射槽下游侧，排放处理水的排放端；测量该排放端的可视光线照射量的可视光线照射量测量装置；和输入紫外线透射率的测量装置的测量值、流量计的测量值和可视光线照射量测量装置的测量值，基于可视光线照射量测量装置的测量值即可视光线照射量、由流量计测量的被处理水的流量和上述紫外线透射率，输出紫外线源的输出控制信号的控制部。
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公开(公告)号：CN101205110A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200710186568.7
申请日：2007-12-12
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: Y02W10/15
Abstract: 一种在污水的MBR中有效利用能量、有效实施膜面清洁、同时良好发挥去除氮和磷的高级处理功能的污水处理装置及方法。这种污水处理装置在好气槽(34)的后段设置底部与好气槽(34)连通、下方设置散气装置(4d)且在散气装置(4d)上方浸渍有将流入的好气槽(34)的混合液过滤分离的过滤膜(10)的膜分离槽(35)和一部分与膜分离槽(35)连通且流入膜分离后的好气槽混合液的滞留槽(36)，使滞留槽(36)的混合液向厌气槽(32)循环，膜分离槽(35)及滞留槽(36)上部成为大气开放结构，与循环液联动、好气槽混合液自然流入膜分离槽及滞留槽中进行补充，使膜分离槽(35)及滞留槽(36)的水面位置保持好气槽的水面位置。
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公开(公告)号：CN1323953C
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200510120405.X
申请日：2005-11-10
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明提供一种水处理工艺运转辅助装置，非常适合辅助水处理工艺的运转条件的决定。在本发明的水处理工艺运转辅助装置(10)中，该水处理工艺具备在含有浊质粒子的原水中添加凝集剂并进行搅拌的混合工序、和对于从上述混合工序流出的水中所含有的浊质粒子的凝集物进行沉淀的分离工序，所述水处理工艺运转辅助装置的特征是，包含以下的机构而构成：粒径分布运算机构(11)，基于原水的条件和混合工序的处理条件，运算混合工序的浊质粒子和凝集物的粒径分布；浊度运算机构(13)，基于粒径分布和分离工序的处理条件，运算分离工序的流出水的浊度。
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公开(公告)号：CN101088923B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN200710108153.8
申请日：2007-05-30
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: Y02A20/16
Abstract: 本发明提供一种水处理设施的管理系统，其中诊断机构(220D)利用破裂检测装置(S20)及膜间差压计(S10)的测量值和管理基准数据库(250)所存储的管理基准值，诊断膜处理设施的运转状态的异常。危险优先数评价机构(220B)利用诊断机构(220D)的诊断结果及管理基准数据库(250)的信息，计算设备机器的危险优先数。由于可以供给通过利用膜的水处理而稳定了水质及水量的自来水或再生水，故可以持续地实施对膜处理设施的设备机器的维护检修频度设定进行的援助。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101462781B
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN200810183751.6
申请日：2008-12-15
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明提供一种可以得到多个不同水质等级的紫外线水处理装置。为达到上述目的，本发明的紫外线水处理装置具有：具有流入流路(5)和流出流路(7)且从流入流路(5)流入的被处理水流通的紫外线照射槽(1)，向被处理水照射紫外线的紫外线源(2)，防止被处理水与紫外线源(2)直接接触且透过紫外线的保护件(3)，设置在流入流路(5)和流出流路(7)之间、从紫外线照射槽(1)抽出处理水的一个以上的分支流路，所述紫外线水处理装置向分支流路和流出流路(7)之间的紫外线照射槽内的被处理水进行不同时间的紫外线照射。
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公开(公告)号：CN101745286A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910253831.9
申请日：2009-12-08
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: Y02A50/2347
Abstract: 本发明提供一种使用了活性炭及/或催化剂的排臭氧处理装置，其能够将排臭氧安全地降低至规定值以下，从而能够提高可靠性，降低设备及运行成本。在该排臭氧处理装置中，包含臭氧等的废气流入流路，流向活性炭塔。在活性炭塔中，利用活性炭分解在废气中含有的臭氧等气体。利用在所分解的废气的流路设置的气体浓度计测定臭氧气体浓度后，在空气等稀释气体流入的分支流路中，利用空气稀释包含臭氧的废气，利用鼓风机向大气中排放。控制装置基于气体浓度计的测定值、从输入机构接收的设定值即大气排放臭氧限制值(CA)以及活性炭着火的臭氧浓度(CH)，进行警报的发送(9)、废气的流入阻断(10)、气体流路的切换以及稀释用空气的流路调节(19)等。
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公开(公告)号：CN101376084A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810210909.4
申请日：2008-08-12
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以提高漏出灵敏度且可靠地检测损伤，成本低的膜过滤装置及膜过滤装置的膜损伤检测方法。所述膜损伤检测模式是在过滤模式后，利用控制装置(34)停止来自原水供给装置(2)的原水的供给，利用空气供给装置(5)向原水室供给空气并向与原水室连接的排出管(9)排出，实施设定时间的剥离膜上附着的浊质而得到高浑浊度水的工序，并执行透过、检测工序，即关闭开闭阀(15)，停止空气的排出，生成透过水，根据所述浊质检测装置(19)的对该透过水浊质状态的检测值判断膜模块(1)是否有损伤。
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公开(公告)号：CN101088923A
公开(公告)日：2007-12-19
申请号：CN200710108153.8
申请日：2007-05-30
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: C02F1/44
CPC classification number: Y02A20/16
Abstract: 本发明提供一种水处理设施的管理系统，其中诊断机构(220D)利用破裂检测装置(S20)及膜间差压计(S10)的测量值和管理基准数据库(250)所存储的管理基准值，诊断膜处理设施的运转状态的异常。危险优先数评价机构(220B)利用诊断机构(220D)的诊断结果及管理基准数据库(250)的信息，计算设备机器的危险优先数。由于可以供给通过利用膜的水处理而稳定了水质及水量的自来水或再生水，故可以持续地实施对膜处理设施的设备机器的维护检修频度设定进行的援助。
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公开(公告)号：CN115728305A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202210598826.7
申请日：2022-05-30
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明提供水处理状况监视系统和方法，能够计算出即使是非熟练者也能够简单地辨别图像中的被处理水的浑浊物质凝聚状态是否良好的信息。水处理状况监视系统包括第一和第二摄像装置、第一和第二测量装置。第一和第二摄像装置设置在能够拍摄被处理水的彼此不同的多个场所，取得包括被处理水的图像的图像数据。第一测量装置测定并取得包括被处理水的被处理水浊度的被处理水数据。第二测量装置测定并取得包括处理水的处理水浊度的处理水数据。信息处理装置使用第一和第二摄像装置各自的拍摄图像构建第一和第二凝聚良否判断模型，使用第一和第二凝聚良否判断模型中的任一个，根据包括被处理水的图像的输入数据计算预测处理水浊度。
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