公开(公告)号：CN1038625C

公开(公告)日：1998-06-03

申请号：CN94100510.0

申请日：1994-01-20

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 齐藤昭男 ,  太田胜启 ,  伊藤晴夫 ,  冈齐

IPC: H01L21/306 ,  C23F1/24

Abstract: 本发明的目的在于提供氟酸水溶液或在氟酸+氟化铵混合水溶液中防止杂质附着的技术。通过向氢氟酸水溶液或氟酸+氟化铵混合水溶液等的氢氟酸系的腐蚀溶液中添加可以降低杂质和基板ζ电位的物质，特别是以低于临界胶束浓度的浓度添加阴离子表面活性剂，可以防止或降低混合水溶液中的杂质附着。可以提高半导体器件等的电子元件的成品率。

公开(公告)号：CN1091859A

公开(公告)日：1994-09-07

申请号：CN94100510.0

申请日：1994-01-20

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 齐藤昭男 ,  太田胜启 ,  伊藤晴夫 ,  冈齐

IPC: H01L21/306

Abstract: 本发明的目的在于提供氟酸水溶液或在氟酸+氟化铵混合水溶液中防止杂质附着的技术。通过向氢氟酸水溶液或氟酸+氟化铵混合水溶液等的氢氟酸系的腐蚀溶液中添加可以降低杂质和基板ζ电位的物质，特别是以低于临界胶束浓度的浓度添加阴离子表面活性剂，可以防止或降低混合水溶液中的杂质附着。可以提高半导体装置等的电子元件的产率。