易粘接层形成用组合物
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107083199B

    公开(公告)日:2021-10-29

    申请号:CN201710081034.1

    申请日:2017-02-15

    Abstract: 本发明涉及一种易粘接层形成用组合物。本发明的课题在于,提供一种易粘接层形成用组合物,其可以在由具有环结构的丙烯酸类树脂构成的基材上形成易粘接层。解决手段为使该用于在由主链中具有环结构的丙烯酸类树脂构成的基材上形成易粘接层的易粘接层形成用组合物为含有具有羧基的聚氨酯树脂(A)和环氧化合物(B)的构成。

    聚合物及其制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1616502A

    公开(公告)日:2005-05-18

    申请号:CN200410080682.8

    申请日:2004-09-29

    Abstract: 本发明提供一种聚合物及其制造方法,该聚合物以苯乙烯和/或苯乙烯衍生物单体单元和不饱和有机酸单体单元为必需单元,聚合物发挥的基本性能得以提高,并可适用于各种用途。以苯乙烯和/或苯乙烯衍生物单体单元和不饱和有机酸单体单元为必需单元的聚合物中,组成比相对于该聚合物组成比的平均值偏离超出3%的聚合物的含量为小于等于20质量%。

    聚合物及其制造方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100443516C

    公开(公告)日:2008-12-17

    申请号:CN200410080682.8

    申请日:2004-09-29

    Abstract: 本发明提供一种聚合物及其制造方法,该聚合物以苯乙烯和/或苯乙烯衍生物单体单元和不饱和有机酸单体单元为必需单元,聚合物发挥的基本性能得以提高,并可适用于各种用途。以苯乙烯和/或苯乙烯衍生物单体单元和不饱和有机酸单体单元为必需单元的聚合物中,组成比相对于该聚合物组成比的平均值偏离超出3%的聚合物的含量为小于等于20质量%。

    含有醇式羟基、芳环、和质子性离去基团的共聚物

    公开(公告)号:CN1458178A

    公开(公告)日:2003-11-26

    申请号:CN03122274.9

    申请日:2003-04-25

    CPC classification number: C08F246/00 G03F7/0392

    Abstract: 本发明就所述先有技术而言的目的在于,提供一种含有质子性离去基团的共聚物,它在特性上表现出高度的改变,如自由质子处理后与该处理前相比在碱性水溶液中的溶解性、对基片的粘附性、显影性、耐化学性和耐蚀刻性,并且该共聚物能适当地用于各种应用领域。本发明涉及含有质子性离去基团的共聚物,它具有各自通过一个碳原子与其主链相连的羟基、芳环和质子性离去基团,并且所述的含有质子性离去基团的共聚物在质子性离去基团消除之前表现出20×10-10~1,500×10-10米/秒的碱溶解性。

    光学膜、偏振片保护膜、偏振板以及图像显示装置

    公开(公告)号:CN119422087A

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202380049400.9

    申请日:2023-07-18

    Abstract: 一种光学膜,该光学膜具备:第一最外层,由第一树脂组合物形成;第二最外层,由第二树脂组合物形成;和中间层,配置于第一最外层与第二最外层之间,该中间层由包含主链具有环结构的(甲基)丙烯酸树脂的(甲基)丙烯酸树脂组合物形成,第一树脂组合物和第二树脂组合物包含硬质粒子,第一树脂组合物的玻璃化转变温度Tga、第二树脂组合物的玻璃化转变温度Tgb以及(甲基)丙烯酸树脂组合物的玻璃化转变温度Tgc满足下述式(A)和下述式(B)。式(A):Tga>Tgc;式(B):Tgb>Tgc。

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