公开(公告)号：CN102712664B

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201080052079.2

申请日：2010-11-18

Applicant: 株式会社日本有机雷特显示器 ,  住友化学株式会社

Inventor： 新海征治 ,  原口修一 ,  白木智丈 ,  小川雅司 ,  中谷修平 ,  坂上惠 ,  后藤修 ,  柿本秀信

IPC: C07F7/18 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/027 ,  C07F7/12 ,  C07F7/1804 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0755 ,  H01L51/0056 ,  H01L51/0095

Abstract: 本发明的课题在于，在照射光而进行功能性薄膜的微细图案处理的情况下，抑制照射光的层的基底层的特性降低及功能性薄膜的特性降低。课题的解决途径是，提供一种化合物，是利用光的照射使化合物(A)和化合物(B)进行二聚化反应而得，所述化合物(A)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有亲液性的基团，所述化合物(B)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有疏液性的基团。

公开(公告)号：CN103053040B

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201080068374.7

申请日：2010-08-06

Applicant: 株式会社日本有机雷特显示器

Inventor： 西山诚司 ,  大内晓 ,  小松隆宏 ,  坂上惠 ,  冢本义朗 ,  藤村慎也

IPC: H01L51/50 ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22

CPC classification number: H01L51/5088 ,  H01L51/5209 ,  H01L51/5218 ,  H01L51/56 ,  H01L2251/5369 ,  H05B33/22

Abstract: 本发明提供一种有机EL元件，能够耐受有机EL显示面板的量产工艺，且能实现优异的空穴注入效率，在低电压驱动下具有高发光效率。具体而言，在基板（1）的一面依次层叠阳极（2）、空穴注入层（4）、缓冲层（6A）、发光层（6B）、阴极（8）而构成有机EL元件（1000）。在空穴注入层（4）的表面形成堤（5）以使得包围所述缓冲层（6A）以上的结构。空穴注入层（4）通过溅射成膜氧化钨薄膜而形成。此时，将氧化钨成膜为在其电子态中在比价电子带最低的结合能低1.8～3.6eV的结合能区域内存在占有能级，降低相对于所述缓冲层的空穴注入势垒。在此，在由所述堤（5）规定的区域形成所述功能层侧的表面的一部分与其他部分相比更位于所述阳极一侧的凹陷构造，由所述堤的一部分覆盖所述凹陷构造的凹部的边缘。

公开(公告)号：CN103053041B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201080068393.X

申请日：2010-08-06

Applicant: 株式会社日本有机雷特显示器

Inventor： 原田健史 ,  西山诚司 ,  小松隆宏 ,  竹内孝之 ,  大内晓 ,  冢本义朗 ,  藤村慎也 ,  坂上惠

IPC: H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/5088 ,  H01L51/5209 ,  H01L51/5218 ,  H01L2251/5369

Abstract: 本发明提供一种有机EL元件，能够耐受有机EL显示面板的量产工艺，且能实现优异的空穴注入效率，在低电压驱动下具有高发光效率。具体而言，在基板（10）的一面依次层叠阳极（2）、空穴注入层（3）、缓冲层（6A）、发光层（6B）、阴极（8）而构成有机EL元件（1000）。在空穴注入层（3）的表面形成堤（12）以使得包围所述缓冲层（6A）以上的结构。空穴注入层（3）通过溅射成膜氧化钨薄膜来形成。此时，将氧化钨成膜为在其电子态中使比价电子带最低的结合能低1.8～3.6eV的结合能区域内存在占有能级，降低对所述缓冲层（6A）的空穴注入势垒。在空穴注入层（3）的上面形成凹部（4a），使该凹部的内面与功能层（缓冲层（6A）或发光层（6B））接触。

公开(公告)号：CN102714278A

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN201080052072.0

申请日：2010-11-18

Applicant: 松下电器产业株式会社 ,  住友化学株式会社

Inventor： 新海征治 ,  原口修一 ,  白木智丈 ,  小川雅司 ,  中谷修平 ,  坂上惠 ,  后藤修 ,  柿本秀信

IPC: H01L51/50 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H01L51/42 ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22

CPC classification number: H01L51/0512 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1007 ,  C09K2211/1011 ,  C09K2211/1029 ,  G03F7/0046 ,  H01L27/3246 ,  H01L51/0558 ,  H01L51/56 ,  H01L2227/323 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明的课题在于提供利用涂布法在所需的区域形成有功能性薄膜且特性和其寿命良好的设备、薄膜晶体管及其制造方法。课题的解决装置为一种设备，其特征在于，具有基板、形成在上述基板上的第一电极、形成在上述第一电极的上方的功能性薄膜、和设置在上述功能性薄膜的上方的第二电极，且在上述功能性薄膜的形成区域的周围还具有膜，所述膜含有含氟的基团与π共轭系通过环烯结构或环烷结构结合而得的化合物。

公开(公告)号：CN102712664A

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN201080052079.2

申请日：2010-11-18

Applicant: 松下电器产业株式会社 ,  住友化学株式会社

Inventor： 新海征治 ,  原口修一 ,  白木智丈 ,  小川雅司 ,  中谷修平 ,  坂上惠 ,  后藤修 ,  柿本秀信

IPC: C07F7/18 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/027 ,  C07F7/12 ,  C07F7/1804 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0755 ,  H01L51/0056 ,  H01L51/0095

Abstract: 本发明的课题在于，在照射光而进行功能性薄膜的微细图案处理的情况下，抑制照射光的层的基底层的特性降低及功能性薄膜的特性降低。课题的解决途径是，提供一种化合物，是利用光的照射使化合物(A)和化合物(B)进行二聚化反应而得，所述化合物(A)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有亲液性的基团，所述化合物(B)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有疏液性的基团。

公开(公告)号：CN102714278B

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201080052072.0

申请日：2010-11-18

Applicant: 松下电器产业株式会社 ,  住友化学株式会社

Inventor： 新海征治 ,  原口修一 ,  白木智丈 ,  小川雅司 ,  中谷修平 ,  坂上惠 ,  后藤修 ,  柿本秀信

IPC: H01L51/50 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H01L51/42 ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22

CPC classification number: H01L51/0512 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1007 ,  C09K2211/1011 ,  C09K2211/1029 ,  G03F7/0046 ,  H01L27/3246 ,  H01L51/0558 ,  H01L51/56 ,  H01L2227/323 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明的课题在于提供利用涂布法在所需的区域形成有功能性薄膜且特性和其寿命良好的设备、薄膜晶体管及其制造方法。课题的解决装置为一种设备，其特征在于，具有基板、形成在上述基板上的第一电极、形成在上述第一电极的上方的功能性薄膜、和设置在上述功能性薄膜的上方的第二电极，且在上述功能性薄膜的形成区域的周围还具有膜，所述膜含有含氟的基团与π共轭系通过环烯结构或环烷结构结合而得的化合物。