公开(公告)号：CN115602572A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202210668170.1

申请日：2022-06-14

Applicant: 株式会社斯库林集团(JP)

Inventor： 石丸慧 ,  塚原隆太 ,  石川秀和 ,  竹松佑介

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的课题在于抑制基板处理中的吸引动作引起的不良情况。基板处理方法具备通过从多联阀向吸引配管供给清洗液来清洗吸引配管内部的步骤，基板处理装置具备：至少能够选择性地供给用于处理基板的处理液和用于进行清洗的清洗液中的至少一方的多联阀；用于向基板喷出处理液的处理液喷嘴；连接多联阀与处理液喷嘴的连接配管；以及从连接配管分支设置且用于吸引连接配管内部的吸引配管。

公开(公告)号：CN119948601A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202380066304.5

申请日：2023-08-09

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 土桥裕也 ,  石川秀和 ,  藤井定 ,  邓宝铃 ,  长尾隆

IPC: H01L21/304

Abstract: 基板处理装置(100)具备基板处理单元(10)、配管(32)、过滤器(141)、上游侧配管(151)、下游侧配管(161)以及去除液供给部(165)。基板处理单元(10)处理基板(W)。配管(32)供处理液流通至基板处理单元(10)。过滤器(141)配置于配管(32)。上游侧配管(151)在过滤器(141)的上游侧处连接于配管(32)。下游侧配管(161)在过滤器(141)的下游侧处连接于配管(32)。去除液供给部(165)将气泡去除液供给至上游侧配管(151)以及下游侧配管(161)中的一者。基板处理装置(100)使气泡去除液从上游侧配管(151)以及下游侧配管(161)中的一者经由过滤器(141)通过上游侧配管(151)以及下游侧配管(161)中的另一者。