公开(公告)号：CN112017994B

公开(公告)日：2024-07-23

申请号：CN202010457046.1

申请日：2020-05-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 东克荣 ,  森隆 ,  滩和成 ,  上前昭司 ,  新庄淳一 ,  秀浦伸二

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明的提供基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置通过第一供给配管供给稀释用液，通过第二供给配管供给药液。通过调整部调整流过第一供给配管的稀释用液的流量。在混合罐中对通过第一供给配管供给的稀释用液和通过第二供给配管供给的药液进行混合。通过浓度计测量稀释用液和药液的混合液中的药液的浓度。通过控制部决定稀释用液的流量的修正量以便通过浓度计测量的浓度成为设定值，将所决定的修正量提供给调整部。调整部根据所提供的修正量，修正流过第一供给配管的稀释用液的流量。

公开(公告)号：CN119890075A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202411481542.5

申请日：2024-10-23

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 滩和成

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种处理液供给装置、基板处理装置及处理液供给方法。处理液供给装置包含第1循环装置、第2循环装置、混合导出部及液体供给部。第1循环装置具有与第1液体供给源连接的第1循环系统，将在该第1循环系统的至少一部分流动的第1液体向混合导出部供给。第2循环装置具有与第2液体供给源连接的第2循环系统，将在该第2循环系统的至少一部分流动的第2液体向混合导出部供给。混合导出部将第1液体和第2液体混合，并向设于液体供给部的主蓄留槽引导。液体供给部将主蓄留槽中蓄留的混合液作为处理液向基板处理部供给。

公开(公告)号：CN112017994A

公开(公告)日：2020-12-01

申请号：CN202010457046.1

申请日：2020-05-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 东克荣 ,  森隆 ,  滩和成 ,  上前昭司 ,  新庄淳一 ,  秀浦伸二

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明的提供基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置通过第一供给配管供给稀释用液，通过第二供给配管供给药液。通过调整部调整流过第一供给配管的稀释用液的流量。在混合罐中对通过第一供给配管供给的稀释用液和通过第二供给配管供给的药液进行混合。通过浓度计测量稀释用液和药液的混合液中的药液的浓度。通过控制部决定稀释用液的流量的修正量以便通过浓度计测量的浓度成为设定值，将所决定的修正量提供给调整部。调整部根据所提供的修正量，修正流过第一供给配管的稀释用液的流量。