公开(公告)号：CN116598224A

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN202310109141.6

申请日：2023-02-14

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 远藤亨 ,  山之内祐太 ,  濑川悠太 ,  青木陆太 ,  林宗儒 ,  泽岛隼

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，该基板处理装置具备：药液喷嘴(31)，其包括朝向基板(W)的上表面内的目标位置(P1)沿相对于基板(W)的上表面倾斜的药液吐出方向(D1)吐出药液的药液吐出口(95)；飞沫遮蔽件(101)，其包括与基板(W)的上表面直接对置的遮蔽面(104)，遮蔽面(104)俯视下与目标位置(P1)重叠，当从下观察药液喷嘴(31)和遮蔽面(104)时，药液吐出口(95)的任意部分都配置于遮蔽面(104)的外缘的外侧或遮蔽面(104)的外缘上；以及喷嘴移动单元(38)，其使药液喷嘴(31)与飞沫遮蔽件(101)一起移动。

公开(公告)号：CN119517792A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411156296.6

申请日：2024-08-22

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 远藤亨 ,  加藤拓司 ,  青木陆太 ,  山之内祐太 ,  池上裕

IPC: H01L21/67 ,  F26B11/18 ,  B01D12/00 ,  F26B21/00 ,  F26B21/14

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，将清洗处理后的基板上残留的清洗液以具有比清洗液低的表面张力的置换液置换。在该置换时，将喷嘴装置配置到比处理承杯靠上方的喷嘴上位置。从喷嘴装置朝向下方喷出置换液，同时喷嘴装置从基板中心沿水平方向移动至基板外周端部。然后，对基板进行干燥。在该干燥时，从喷嘴装置朝向下方喷射气体，同时喷嘴装置在基板中心的上方位置处从喷嘴上位置下降至与基板W接近的喷嘴下位置。另外，继续气体的喷射，同时喷嘴装置从基板中心沿水平方向移动至基板外周端部。

公开(公告)号：CN308913359S

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202330729593.5

申请日：2023-11-08

Applicant: 株式会社斯库林集团

Designer： 泽岛隼 ,  山之内祐太 ,  远藤亨 ,  青木陆太

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板处理装置用抑制飞沫扩散部件。
2.本外观设计产品的用途：本产品在基板处理装置中使用，用于抑制飞沫扩散。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。