公开(公告)号：CN115841965A

公开(公告)日：2023-03-24

申请号：CN202211150585.6

申请日：2022-09-21

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高桥朋宏 ,  内田博章 ,  岸田拓也 ,  杉冈真治

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置。在作为第1循环配管(35)的一部分的浓缩用配管(39)，设有具有石英管(47)的石英加热器(41)。第1迂回配管(36)的两端(36A)、(36B)连接在浓缩用配管(39)的上游端及下游端。在第1迂回配管(36)，设有具有非石英管(51)的非石英加热器(45)。控制部(93)在将第1槽(T1)内的磷酸溶液浓缩时，一边将磷酸溶液输送到浓缩用配管(39)，一边使用石英加热器(41)将通过浓缩用配管(39)的磷酸溶液加热。控制部(93)在第1槽(T1)内的磷酸溶液的浓缩完成时，一边将磷酸溶液输送到第1迂回配管(36)，一边使用非石英加热器(45)将通过第1迂回配管(36)的磷酸溶液加热。

公开(公告)号：CN108666235B

公开(公告)日：2022-03-08

申请号：CN201810161422.5

申请日：2018-02-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 仓崎浩二 ,  枝光建治 ,  佐藤昌治 ,  武知圭 ,  松村刚至 ,  内田博章 ,  山本滋 ,  高桥朋宏 ,  岩谷浩伸 ,  杉冈真治

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。目的在于即使在伴随基板处理的处理液中的成分浓度的变化较大的情况下，也能够对处理基板的期间的处理液的浓度进行控制。基板处理装置具备：用于利用处理液(30)对基板(12)进行处理的处理槽(14)；预先取得基板的处理信息(200)的取得部(50)；以及存储对处理信息所能取的多个状况、和与上述多个状况分别对应地预先准备的多个浓度变化模式进行记述的对应信息的存储部(52)。并设有：通过参照对应信息，对与所取得的基板的处理信息对应的预测浓度变化模式进行确定的确定部(54)；以及在处理槽中处理基板的期间，基于预测浓度变化模式进行处理液的浓度控制的控制部(56)。

公开(公告)号：CN109791884A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201780057738.3

申请日：2017-06-08

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 铃木达大 ,  德利宪太郎 ,  西村高志 ,  结城嘉晓 ,  玉置康人 ,  宫路信行 ,  平下友美 ,  内田博章 ,  奥谷洋介

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/304

Abstract: 本发明的目的在于提供抑制衬底的污染的技术。衬底处理装置具备：衬底保持部，其水平地保持衬底；处理液供给部，其向被保持于衬底保持部的衬底供给处理液；和受液部，其围绕衬底保持部的周围，并接收从衬底飞散的处理液。另外，受液部的内周面具有在被保持于衬底保持部的衬底侧露出的多个槽，多个槽各自的延伸方向包含铅垂方向的分量。因此，处理液的液滴易于在槽内合流并因自重而落下。

公开(公告)号：CN113451174B

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202110300578.9

申请日：2021-03-22

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高桥朋宏 ,  武知圭 ,  内田博章 ,  杉冈真治

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能使用来处理衬底的处理液的浓度快速达到目标值的处理液调温方法、衬底处理方法、处理液调温装置及衬底处理系统。处理液调温方法包括：步骤(S1)，将用来处理衬底(W)的处理液(LQ)加热到处理液(LQ)的标准沸点以上；步骤(S2)，对贮存在第1贮存槽(210)的处理液(LQ)供给促进水分从加热后的处理液(LQ)中蒸发的气体(GA)；及步骤(S3)，从第1贮存槽(210)中排出水蒸气及气体(GA)。处理液(LQ)是含有磷酸的液体。

公开(公告)号：CN109791884B

公开(公告)日：2023-05-30

申请号：CN201780057738.3

申请日：2017-06-08

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 铃木达大 ,  德利宪太郎 ,  西村高志 ,  结城嘉晓 ,  玉置康人 ,  宫路信行 ,  平下友美 ,  内田博章 ,  奥谷洋介

IPC: H01L21/304

公开(公告)号：CN108666235A

公开(公告)日：2018-10-16

申请号：CN201810161422.5

申请日：2018-02-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 仓崎浩二 ,  枝光建治 ,  佐藤昌治 ,  武知圭 ,  松村刚至 ,  内田博章 ,  山本滋 ,  高桥朋宏 ,  岩谷浩伸 ,  杉冈真治

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L22/26 ,  C03C15/00 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。目的在于即使在伴随基板处理的处理液中的成分浓度的变化较大的情况下，也能够对处理基板的期间的处理液的浓度进行控制。基板处理装置具备：用于利用处理液(30)对基板(12)进行处理的处理槽(14)；预先取得基板的处理信息(200)的取得部(50)；以及存储对处理信息所能取的多个状况、和与上述多个状况分别对应地预先准备的多个浓度变化模式进行记述的对应信息的存储部(52)。并设有：通过参照对应信息，对与所取得的基板的处理信息对应的预测浓度变化模式进行确定的确定部(54)；以及在处理槽中处理基板的期间，基于预测浓度变化模式进行处理液的浓度控制的控制部(56)。

公开(公告)号：CN113451174A

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN202110300578.9

申请日：2021-03-22

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高桥朋宏 ,  武知圭 ,  内田博章 ,  杉冈真治

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能使用来处理衬底的处理液的浓度快速达到目标值的处理液调温方法、衬底处理方法、处理液调温装置及衬底处理系统。处理液调温方法包括：步骤(S1)，将用来处理衬底(W)的处理液(LQ)加热到处理液(LQ)的标准沸点以上；步骤(S2)，对贮存在第1贮存槽(210)的处理液(LQ)供给促进水分从加热后的处理液(LQ)中蒸发的气体(GA)；及步骤(S3)，从第1贮存槽(210)中排出水蒸气及气体(GA)。处理液(LQ)是含有磷酸的液体。