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公开(公告)号：CN105209899A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201480019830.7
申请日：2014-04-04
IPC: G01N27/64
CPC classification number: H01J49/0418 , B05D1/60 , B05D3/107 , B05D7/5483 , H01J49/0004
Abstract: 在导电性载玻片上粘贴生物组织切片等样品(S1)后，通过真空蒸镀，形成覆盖样品的适当的基质(Matrix)物质膜层(S2)。该膜层中的基质物质的结晶非常细，均匀性也高。接着，将形成有基质膜层的载玻片置于气化溶剂气氛中，使溶剂浸润到基质膜层中(S3)。充分浸润的溶剂气化时，样品中的测定对象物质进入基质中而再结晶化。另外，通过真空蒸镀，在其表面再次形成基质膜层(S4)。追加的基质膜层会在MALDI时吸收激光的过剩能量，抑制测定对象物质的改性等，因此在具有高空间分辨率的同时可以实现高检测灵敏度。
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公开(公告)号：CN105209899B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201480019830.7
申请日：2014-04-04
IPC: G01N27/64
CPC classification number: H01J49/0418 , B05D1/60 , B05D3/107 , B05D7/5483 , H01J49/0004
Abstract: 在导电性载玻片上粘贴生物组织切片等样品(S1)后，通过真空蒸镀，形成覆盖样品的适当的基质(Matrix)物质膜层(S2)。该膜层中的基质物质的结晶非常细，均匀性也高。接着，将形成有基质膜层的载玻片置于气化溶剂气氛中，使溶剂浸润到基质膜层中(S3)。充分浸润的溶剂气化时，样品中的测定对象物质进入基质中而再结晶化。另外，通过真空蒸镀，在其表面再次形成基质膜层(S4)。追加的基质膜层会在MALDI时吸收激光的过剩能量，抑制测定对象物质的改性等，因此在具有高空间分辨率的同时可以实现高检测灵敏度。
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公开(公告)号：CN112485076A
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN202010805626.5
申请日：2020-08-12
Applicant: 株式会社岛津制作所
Abstract: 本发明提供一种试样预处理装置，准确且高效地解除由基质物质的结晶的沉淀引起的喷嘴的堵塞。本发明所涉及的试样预处理装置的一个方式是向试样的表面涂布溶解有或分散有规定的物质的溶液的试样预处理装置，该试样预处理装置具备：喷洒部(3)，其包括用于流通所述溶液的溶液管(32)、用于流通喷雾气体的气体管(33)以及通过喷出经过所述气体管后的喷雾气体来将到达所述溶液管的末端的所述溶液进行喷雾的喷嘴部(30)；以及所述清洗液供给部(4、41)，其从所述喷洒部的外侧向所述喷嘴部的开口施加清洗液。
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公开(公告)号：CN105914124A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201610099211.4
申请日：2016-02-23
Applicant: 株式会社岛津制作所
IPC: H01J49/10
CPC classification number: H01J49/147 , H01J27/024 , H01J27/205 , H01J49/067 , H01J49/145 , H01J49/10
Abstract: 公开一种电离设备。离子源(3)中，形成朝离子发射端口(311)排斥离子的排斥电场的排斥电极(32)在电离室(31)内，离子聚集电极(36)和(37)分别在电子导入端口(312)和丝(34)之间，和电子排出端口(313)和反向丝(35)之间。通过施加预定电压到离子聚集电极(36)和(37)中的各个形成的电场由电子导入端口(312)和电子排出端口(313)侵入电离室(31)，且变成离子光轴C方向上推动离子的聚集电场。偏离电离室(31)中心部分位置的离子接收排斥电场力和聚集电场力的结合力，并朝离子发射端口(311)移动，同时接近光轴C。因此，离子发射端口发送出的离子量增加。此外即使充电现象发生，离子轨迹也不太容易改变，且灵敏度稳定性可以提高。
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公开(公告)号：CN112611612A
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN202010841422.7
申请日：2020-08-20
Applicant: 株式会社岛津制作所
Abstract: 本发明提供一种能够使用于收纳试剂的容器小型化的MALDI用前处理装置。设置有用于收纳试剂的第1容器(301)和在内部收纳第1容器(301)的第2容器(302)。在加压机构(300)中，通过对第2容器(302)内的在第1容器(301)的外侧形成的加压空间(303)进行加压从而对与该加压空间(303)连通的第1容器(301)内进行加压。从被加压的第1容器(301)内经由配管(31)导出试剂。
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公开(公告)号：CN115917283A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202080102510.3
申请日：2020-10-28
Applicant: 株式会社岛津制作所
IPC: G01N1/04
Abstract: 本发明涉及一种试样纯化装置(1)，具备：容器(50)，用于使用重液而利用比重差分离混合试样；配管(11)，用于将用于处理混合试样中包含的夹杂物的氧化剂导入至容器；配管(12)，用于将重液导入至容器；排出口(20)，用于将容器内的液体中的因重液的导入而产生的上清液排出至容器的外部；检测过滤器(21)，用于导入从排出口排出的上清液而回收所述混合试样中比重轻于所述重液的成分；至少1个的阀(31a、32a)，分别设置于配管(11)及配管(12)，并且切换液体的进出；控制部(501)，对至少1个的阀进行控制。
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公开(公告)号：CN115989400A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202180045654.4
申请日：2021-03-09
Applicant: 株式会社岛津制作所
IPC: G01N1/16
Abstract: 本发明涉及一种试样纯化装置(1)，其具备：容器(50)，用于使用重液并利用比重差分离混合试样；回收部(21)，用于导入从容器(50)排出的上清液并回收混合试样中比重轻于重液的成分，容器(50)包含：排出口(20)，设置于该容器(50)的最上部；排出路径(25)，将从排出口(20)排出的上清液向回收部(21)引导，容器(50)的水平截面积构成为从该容器(50)的至少规定的高度到排出口(20)之间随着朝向上方向而连续变小。
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公开(公告)号：CN105914124B
公开(公告)日：2018-07-10
申请号：CN201610099211.4
申请日：2016-02-23
Applicant: 株式会社岛津制作所
IPC: H01J49/10
CPC classification number: H01J49/147 , H01J27/024 , H01J27/205 , H01J49/067 , H01J49/145
Abstract: 公开一种电离设备。离子源(3)中，形成朝离子发射端口(311)排斥离子的排斥电场的排斥电极(32)在电离室(31)内，离子聚集电极(36)和(37)分别在电子导入端口(312)和丝(34)之间，和电子排出端口(313)和反向丝(35)之间。通过施加预定电压到离子聚集电极(36)和(37)中的各个形成的电场由电子导入端口(312)和电子排出端口(313)侵入电离室(31)，且变成离子光轴C方向上推动离子的聚集电场。偏离电离室(31)中心部分位置的离子接收排斥电场力和聚集电场力的结合力，并朝离子发射端口(311)移动，同时接近光轴C。因此，离子发射端口发送出的离子量增加。此外即使充电现象发生，离子轨迹也不太容易改变，且灵敏度稳定性可以提高。
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