公开(公告)号：CN1272644C

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：CN01144849.0

申请日：2001-12-28

Applicant: 株式会社岛津制作所

Inventor： 长野哲也 ,  小枝胜 ,  佐藤诚 ,  佐藤晃 ,  宫内真二

IPC: G02B5/18

CPC classification number: G02B5/1866 ,  G02B5/1809 ,  G02B5/1852 ,  G02B5/1857 ,  G02B5/1861 ,  Y10T428/24479

Abstract: 本发明光栅的刻槽横截面不是薄层形状，而是例如类似正弦波或锯齿形，刻槽底部形状类似平面形。在刻槽周期与从近红外到红外的所用波长为相同数量级的范围内，本发明光栅比相关技术中的全息光栅和小阶梯光栅的光谱性能更出色(在较宽的波长范围内具有平衡的高效率)。当制造本发明光栅的复制品时，由于刻槽深宽比小，因此刻槽彼此间的啮合力也小，由于刻槽底部大，因此脱模剂能充分到达刻槽底部。

公开(公告)号：CN1428617A

公开(公告)日：2003-07-09

申请号：CN01144849.0

申请日：2001-12-28

Applicant: 株式会社岛津制作所

Inventor： 长野哲也 ,  小枝胜 ,  佐藤诚 ,  佐藤晃 ,  宫内真二

IPC: G02B5/18

CPC classification number: G02B5/1866 ,  G02B5/1809 ,  G02B5/1852 ,  G02B5/1857 ,  G02B5/1861 ,  Y10T428/24479

Abstract: 本发明光栅的刻槽横截面不是薄层形状，而是例如类似正弦波或锯齿形，刻槽底部形状类似平面形。在刻槽周期与从近红外到红外的所用波长为相同数量级的范围内，本发明光栅比相关技术中的全息光栅和小阶梯光栅的光谱性能更出色(在较宽的波长范围内具有平衡的高效率)。当制造本发明光栅的复制品时，由于刻槽深宽比小，因此刻槽彼此间的啮合力也小，由于刻槽底部大，因此脱模剂能充分到达刻槽底部。