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公开(公告)号：CN102194642B
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201110041262.9
申请日：2011-02-18
Applicant: 株式会社岛津制作所
CPC classification number: H01J49/0004 , H01J49/0009
Abstract: 本发明涉及质谱仪。当试样板(3)安置在试样台(2)上时，照射痕迹形成控制器(22)适当移动试样台，并且投射高功率激光束的短脉冲以在试样板的预定位置产生照射痕迹。该照射痕迹具有独有的形状。获取照射痕迹的显微图像并将该显微图像保存在图像存储部(32)中。在将试样板从台(2)临时取出以对试样施加基质之后，将试样板再次安置在试样台上。然后，根据拍摄于该时间点的图像和先前存储在图像存储部(32)中的图像之间照射痕迹的位置的差来计算试样板相对于其原始位置的位移。基于该计算结果，分析位置校正器(24)修正操作员选择的区域的位置信息。因而，可以精确地检测再次安置的试样板的位移。无需使用为了创建位移检测用标记而预先处理过的特殊的试样板。
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公开(公告)号：CN119384711A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202380046832.4
申请日：2023-04-27
Applicant: 株式会社岛津制作所
Abstract: 一种质量分析装置用样品板支架(6)，其具备：施力构件(631～633)，在不位于一条直线上的3处将样品板的一个面朝向另一个面按压；以及抵接构件(612～614)，在俯视时与所述3处对应的位置与样品板(5)的另一个面抵接。该样品板支架(6)能够在质量分析装置(1)中优选地使用，该质量分析装置(1)具备：对载置于样品板上的试样照射激光的激光照射部(13)、以及对由激光的照射而从试样(S)生成的离子进行质量分析的质量分析部(30)。
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公开(公告)号：CN109073593A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201680084746.2
申请日：2016-04-18
Applicant: 株式会社岛津制作所
Inventor： 原田高宏
Abstract: 在激光照射部(13)与试样(100)之间的规定位置处配置具有规定形状的开口的孔构件(14)和焦距短的成像光学系统(15)，通过在试样(100)上使开口形状进行缩小成像来形成大致正方形的激光照射区域。另外，能够使孔构件(14)和成像光学系统(15)分别沿光轴方向进行移动，将试样(100)上的大致正方形的激光照射区域的尺寸设为可变。使激光照射区域的尺寸与试样(100)上的分析对象区域内的单位关注区域的大小相匹配，使激光照射位置移动的扫描的步长也与单位关注区域的大小相匹配，由此能够无遗漏且不使激光照射部位重叠地在试样(100)上进行扫描来收集质谱分析数据。由此，能够有效地利用试样，并且也不存在物质的漏检测，均匀地分布的物质的信号强度的均匀性也提高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105122422B
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201480022277.2
申请日：2014-04-09
Applicant: 株式会社岛津制作所
Inventor： 原田高宏
CPC classification number: H01J49/164 , H01J49/04 , H01J49/40
Abstract: 提供一种防止未被引入到导入管或者导入孔的离子、微粒子向腔室内部的扩散的质谱分析装置。一种质谱分析装置(1)，其具备用于通过激光的照射来将试样S上的分析位置离子化的离子化室(10)、具有检测离子的质量分析器(24)的分析室(23)、以及在离子化室(10)与分析室(23)之间配设了的中间真空室(21、22)，并且形成有将离子化室(10)的框体(11)内部与中间真空室(21)的内部连通的导入管(12)或者导入孔，其中，该质谱分析装置具备排出管(13)、以及将空气引入到排气管(13)的风扇(15)，构成为通过驱动风扇(15)，将包括未被导入到导入管(12)或者导入孔的离子以及/或者微粒子的空气吸引到排气管(13)中。
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公开(公告)号：CN105122422A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201480022277.2
申请日：2014-04-09
Applicant: 株式会社岛津制作所
Inventor： 原田高宏
CPC classification number: H01J49/164 , H01J49/04 , H01J49/40
Abstract: 提供一种防止未被引入到导入管或者导入孔的离子、微粒子向腔室内部的扩散的质谱分析装置。一种质谱分析装置(1)，其具备用于通过激光的照射来将试样S上的分析位置离子化的离子化室(10)、具有检测离子的质量分析器(24)的分析室(23)、以及在离子化室(10)与分析室(23)之间配设了的中间真空室(21、22)，并且形成有将离子化室(10)的框体(11)内部与中间真空室(21)的内部连通的导入管(12)或者导入孔，其中，该质谱分析装置具备排出管(13)、以及将空气引入到排气管(13)的风扇(15)，构成为通过驱动风扇(15)，将包括未被导入到导入管(12)或者导入孔的离子以及/或者微粒子的空气吸引到排气管(13)中。
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公开(公告)号：CN109073593B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201680084746.2
申请日：2016-04-18
Applicant: 株式会社岛津制作所
Inventor： 原田高宏
Abstract: 在激光照射部(13)与试样(100)之间的规定位置处配置具有规定形状的开口的孔构件(14)和焦距短的成像光学系统(15)，通过在试样(100)上使开口形状进行缩小成像来形成大致正方形的激光照射区域。另外，能够使孔构件(14)和成像光学系统(15)分别沿光轴方向进行移动，将试样(100)上的大致正方形的激光照射区域的尺寸设为可变。使激光照射区域的尺寸与试样(100)上的分析对象区域内的单位关注区域的大小相匹配，使激光照射位置移动的扫描的步长也与单位关注区域的大小相匹配，由此能够无遗漏且不使激光照射部位重叠地在试样(100)上进行扫描来收集质谱分析数据。由此，能够有效地利用试样，并且也不存在物质的漏检测，均匀地分布的物质的信号强度的均匀性也提高。
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公开(公告)号：CN102194642A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110041262.9
申请日：2011-02-18
Applicant: 株式会社岛津制作所
CPC classification number: H01J49/0004 , H01J49/0009
Abstract: 本发明涉及质谱仪。当试样板(3)安置在试样台(2)上时，照射痕迹形成控制器(22)适当移动试样台，并且投射高功率激光束的短脉冲以在试样板的预定位置产生照射痕迹。该照射痕迹具有独有的形状。获取照射痕迹的显微图像并将该显微图像保存在图像存储部(32)中。在将试样板从台(2)临时取出以对试样施加基质之后，将试样板再次安置在试样台上。然后，根据拍摄于该时间点的图像和先前存储在图像存储部(32)中的图像之间照射痕迹的位置的差来计算试样板相对于其原始位置的位移。基于该计算结果，分析位置校正器(24)修正操作员选择的区域的位置信息。因而，可以精确地检测再次安置的试样板的位移。无需使用为了创建位移检测用标记而预先处理过的特殊的试样板。
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