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公开(公告)号：CN110297403B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN201910510003.2
申请日：2015-09-03
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/30 , G03F7/24 , G03F7/16 , G03F9/00 , H01L21/67 , H01L21/677 , B65H23/188 , B65H20/34 , B65H20/24 , B65H20/02 , B65H18/10
Abstract: 本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
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公开(公告)号：CN115003418A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202180010123.1
申请日：2021-01-20
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B05B5/057 , B05B5/08 , B05B12/00 , B05B13/02 , H01L21/027
Abstract: 一种成膜装置，其将包含微粒的雾供给至基板，在基板的表面形成包含微粒的膜，该成膜装置具备：覆盖基板的表面的至少一部分的导风部件；以及将雾供给至基板的表面与导风部件之间的空间的雾供给部。雾供给部包括使雾带正电或带负电的带电赋予部；以及将通过带电赋予部而带电的雾向空间内喷出的雾喷出部。导风部件具有与基板的表面对置的壁面，包括使壁面产生与通过带电赋予部带电的雾相同符号的电位的静电场发生部。
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公开(公告)号：CN108710263B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201810312226.3
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置，其使在从中心线以规定的半径弯曲成圆筒状的外周面上形成有电子设备用的图案的圆筒光罩绕中心线旋转，使被支承为圆筒状或平面状的基板以对应于圆筒光罩的旋转速度的速度移动，由此将圆筒光罩的图案曝光至基板，其具有在曝光装置主体可旋转地支承向圆筒光罩的中心线延伸的方向上的两侧突出的转轴、并且在改变圆筒光罩的中心线与基板的距离的Z方向上能够相对于曝光装置主体移动圆筒光罩的支承机构，支承机构包括：可旋转地支承转轴的可动体；以改变可动体相对于曝光装置主体在Z方向上的位置的方式在Z方向上驱动可动体的驱动源；及用于利用曝光装置主体支承圆筒光罩的自重的大部分来减轻驱动源的负荷的弹性支承构件。
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公开(公告)号：CN108919607B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201810608818.X
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及基板处理装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN107748486B
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201711113525.6
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
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公开(公告)号：CN110083018A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201811596980.0
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
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公开(公告)号：CN107957660A
公开(公告)日：2018-04-24
申请号：CN201711205151.0
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号：CN104303110A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201380025725.X
申请日：2013-04-09
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
CPC classification number: G02F1/1303 , B29C65/18 , B29C65/5057 , B29C65/7451 , B29C65/7847 , B29C66/1122 , B29C66/43 , B29C66/8221 , B29C66/83221 , B29C66/83241 , B29C66/853 , B29C66/934 , B65G2249/04 , B65H19/1852 , B65H19/1873 , B65H2301/46172 , B65H2301/4621 , B65H2301/46312 , B65H2408/2171 , B65H2801/61 , C03B33/0235 , G02F1/133351 , G02F2001/133354 , Y02P40/57
Abstract: 一种基板处理系统，具有：第1处理单元，对以速度V1搬送的基板连续地实施第1处理；以及第2处理单元，以速度V2搬送由第1处理单元处理后的基板，对基板连续地实施第2处理，在根据第1、第2处理单元各自的性能，能够将速度的关系设定成V1＞V2的情况下，设置多个第2处理单元，且还具有切断机构和选择投入机构，在根据第1、第2处理单元各自的性能，能够将速度的关系设定成V1＜V2的情况下，设置多个第1处理单元，且还具有将由多个第1处理单元实施第1处理的多个基板，依次接合并投入至第2处理单元的接合机构。
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公开(公告)号：CN119387064A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202411591806.2
申请日：2021-01-20
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B05B5/057 , B05B5/08 , B05B12/00 , B05B13/02 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供成膜装置、成膜方法和导电膜的制造装置。成膜装置是将包含微粒的雾供给至基板，在所述基板的表面形成包含所述微粒的膜的成膜装置，其中，所述成膜装置具备：导体，其设置为与所述基板的表面分离；雾供给部，其将所述雾供给至所述基板的表面；输送部，其输送所述基板；以及交流电场发生部，其对所述导体和所述输送部中的至少一方施加交流电压。
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公开(公告)号：CN118575064A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202280089744.8
申请日：2022-11-22
Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所 , 株式会社尼康
Abstract: 柔性传感器(10)具备：具有挠性的主基板(21)；设在主基板(21)上的支承基板(28)，其具有挠性，至少外表面由具有电绝缘性的材料形成；以及可变电阻部(24)，其电阻值根据自身的应变而变化，设在支承基板(28)中的与主基板(21)相反一侧的第1面(28a)。
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