水分发生用反应炉
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1279582C

    公开(公告)日:2006-10-11

    申请号:CN200410003341.0

    申请日:2000-07-21

    CPC classification number: B01J3/006 B01J7/00 B01J12/007 C01B5/00

    Abstract: 本发明的目的是提供一种安全的减压型水分发生供给装置,该装置减压供给(例如数托)水分气体,较高地保持水分发生用反应炉的内压,这样,可防止氢的自燃,本发明的另一目的是提供一种水分发生用反应炉,是通过对水分发生用反应炉高效率地进行冷却,便可在不增大反应炉尺寸的情况下使水分发生量大幅度增加的水分发生用反应炉。因此,本发明的减压型水分发生供给装置的特征在于:由水分发生用反应炉和减压机构构成,其中水分发生用反应炉是由氢和氧通过催化剂反应而发生水分气体;减压机构设在该水分发生用反应炉的下流侧,水分气体通过该减压机构减压后供给下流侧,与此同时较高地保持反应炉内的内压。本发明的散热式水分发生用反应炉由将入口侧炉主体部件和出口侧炉主体部件组合起来而形成有内部空间的反应炉主体、和贴紧在上述各炉子主体部件的外壁面上的散热片底板、及立设在该散热片底板上的多个散热用散热片构成,利用上述散热用散热片对发生的热量进行强制性辐射,使反应炉的温度降低。并且,对散热用散热片进行氧化铝膜加工,使热辐射率大幅度提高,而使散热效率进一步提高。

    未反应气体检测装置及未反应气体检测传感器

    公开(公告)号:CN1376914A

    公开(公告)日:2002-10-30

    申请号:CN02107863.7

    申请日:2002-03-25

    CPC classification number: G01N25/36 G01N25/28 G01N27/16

    Abstract: 一种未反应气体检测装置,可准确地检测出残留在目标气体中的可燃性未反应气体浓度,安全地供应原料气体。本发明的未反应气体检测装置40包括:炉主体;与炉主体相连接的传感器主体44;形成于该传感器主体44内,使上述目标气体流通的测定用空间46;具有促进反应用的催化剂层74的温度测定部72c的;设有温度测定部70c的目标气体温度检测传感器70。利用上述促进反应用催化剂层74使残留于目标气体中的未反应气体反应,检测温度测定部72c的温度上升情况,同时用上述温度测定部70c测定目标气体温度To,根据未反应气体检测传感器温度T与目标气体温度之温度差ΔT(=T-To)检测未反应气体浓度。

    供气系统的水分去除法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1316044A

    公开(公告)日:2001-10-03

    申请号:CN00801268.7

    申请日:2000-09-11

    CPC classification number: B01D53/26 F17D3/14

    Abstract: 本发明实现了不用烘烤法、而通过常温排气处理即可有效地除去吸附水分的供气系统的水分去除法。本发明为一种使除水分气体在供气系统中流动而除去残留在供气系统内的水分的方法,其特征为,将除水分气体的流压设定成大于或等于其气流成为粘性流的最小压力,并且小于或等于除水分气体流通温度的饱和水蒸气压。此外,所述除水分气体成为粘性流的条件是通过气体分子的平均自由行程小于供气系统配管的直径来判定。如果在这样的条件下对除水分气体进行常温排气,则能够有效地除去在配管内面或阀及过滤器件内的吸附水分。

    流量控制装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111406243A

    公开(公告)日:2020-07-10

    申请号:CN201880071834.8

    申请日:2018-11-20

    Abstract: 本发明提供一种流量控制装置(100),具备:压力控制阀(6),其设置于流路;流量控制阀(8),其设置在压力控制阀的下游侧;以及第一压力传感器(3),其对压力控制阀的下游侧且流量控制阀的上游侧的压力进行测定,流量控制阀具有:离接于阀座(12)的阀体(13);用于使阀体移动以使阀体离接于阀座的压电元件(10b);以及设置于压电元件的侧面的应变传感器(20),其构成为基于从第一压力传感器(3)输出的信号控制压力控制阀(6),基于从应变传感器(20)输出的信号控制流量控制阀(8)的压电元件的驱动。

    流量控制装置的自我诊断方法

    公开(公告)号:CN111373340A

    公开(公告)日:2020-07-03

    申请号:CN201880074626.3

    申请日:2018-11-20

    Abstract: 本发明涉及一种流量控制装置的自我诊断方法,包括:工序(a),从流量控制阀(8)的开度为节流部以上的开度且流体从压力控制阀(6)的上游侧流动的状态,使压力控制阀变化为闭状态,测定变化之后的压力下降特性;工序(b),从流量控制阀的开度为小于节流部的开度且流体从压力控制阀的上游侧流向下游侧的状态,使压力控制阀变化为闭状态,测定变化之后的压力下降特性;工序(c),对在工序(a)测定的压力下降特性和对应的基准压力下降特性进行比较,判断有无异常;工序(d),对在工序(b)测定的压力下降特性和对应的基准压力下降特性进行比较,判断有无异常;和工序(e),仅只在工序(d)判断存在异常的情况下,判断流量控制阀存在异常。

    水分生成用反应炉的并列运转方法

    公开(公告)号:CN101652318A

    公开(公告)日:2010-02-17

    申请号:CN200780052631.6

    申请日:2007-04-17

    CPC classification number: C01B5/00 Y10T137/0396

    Abstract: 在通过并列运转多座水分生成用反应炉而对应于高纯度水供给量的增大的要求的情况下,本发明能够借助极其简单的孔部件的利用而进行(H 2 )和(O 2 )的混合气体的分流供给,从而能够使混合气体(原料气体)分流装置简单化和大幅降低设备费。即,本发明的水分生成用反应炉的并列运转方法为,在并列地连接的多个水分生成用反应炉的各混合气体入口侧配设具有既定的口径的小孔的孔部件,通过上述各孔部件向各水分生成用反应炉供给来自混合器的氢和氧的混合气体(G),并且使在各水分生成用反应炉中生成的水分合流而向高纯度水的使用装置供给。

    流体供给设备
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1127004C

    公开(公告)日:2003-11-05

    申请号:CN99800002.7

    申请日:1999-01-11

    CPC classification number: G05D7/0635 Y10T137/7759 Y10T137/7761

    Abstract: 一种供如半导体制造设备中气体供给系统用的流体供给设备,它使得有可能在开始供给流体或流体转换时高精度控制流体流速而不产生流体的瞬时过冲现象。本发明的流体供给设备包括:压力流量控制器,用来调节流体的流率;流体转换阀,用来打开和关闭压力流量控制器次级侧的流体通道;以及流体供给控制单元,用来控制压力流量控制器和流体转换阀的操作;压力流量控制器包括:注流孔5;设置在注流孔5上游侧的控制阀1;设置在控制阀1和注流孔5之间的压力检测器3;以及计算控制单元6,它把流率信号Qc和流率指定信号Qs之间的差值作为控制信号Qy输入到控制阀1的驱动器2,流率信号Qc是利用流率Qc=KP1(K=常数)、根据由压力检测器3检测到的压力P1计算的;其中,通过借助打开和关闭控制阀1来调节注流孔上游侧的压力P1而控制注流孔5下游侧的流率。

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