公开(公告)号：CN107836038B

公开(公告)日：2022-04-19

申请号：CN201680040232.7

申请日：2016-03-11

Applicant: 株式会社优泰科

Inventor： 石昌吉 ,  孔大永 ,  宋汶奎 ,  徐圭澈

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/324 ,  H01L21/683

Abstract: 一种快速热处理设备包括：室，其用于快速热处理；支撑台，其布置在室的内下侧上，以支撑和旋转经受快速热处理的基板；热源装置，其布置在室的内上侧上，以使光直射在经受快速热处理的基板处，以快速加热基板；用于温度测量的基板，其与经受快速热处理的基板的一部分向上间隔开，并由与经受快速热处理的基板的材料相同的材料形成；热电偶，其用于温度测量，安装在用于温度测量的基板上，以测量用于温度测量的基板的温度；支撑部件，其由透光材料形成，支撑用于温度测量的基板；以及透光板，其布置在支撑部件与热源装置之间，以使室的相对内部空间彼此隔离，其中，由热电偶测量的用于温度测量的基板的温度被认为是经受快速热处理的基板的温度。

公开(公告)号：CN107836038A

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201680040232.7

申请日：2016-03-11

Applicant: 株式会社优泰科

Inventor： 石昌吉 ,  孔大永 ,  宋汶奎 ,  徐圭澈

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/324 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/67098 ,  G05D23/1917 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/683 ,  H05B3/0047

Abstract: 一种快速热处理设备包括：室，其用于快速热处理；支撑台，其布置在室的内下侧上，以支撑和旋转经受快速热处理的基板；热源装置，其布置在室的内上侧上，以使光直射在经受快速热处理的基板处，以快速加热基板；用于温度测量的基板，其与经受快速热处理的基板的一部分向上间隔开，并由与经受快速热处理的基板的材料相同的材料形成；热电偶，其用于温度测量，安装在用于温度测量的基板上，以测量用于温度测量的基板的温度；支撑部件，其由透光材料形成，支撑用于温度测量的基板；以及透光板，其布置在支撑部件与热源装置之间，以使室的相对内部空间彼此隔离，其中，由热电偶测量的用于温度测量的基板的温度被认为是经受快速热处理的基板的温度。