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公开(公告)号:CN101448740B
公开(公告)日:2012-06-13
申请号:CN200780018780.0
申请日:2007-05-22
Applicant: 株式会社丰田中央研究所
CPC classification number: C23C16/26 , H01M8/0206 , H01M8/0213 , H01M8/0228 , Y02P70/56 , Y10T428/30 , Y10T428/31504 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明的非晶碳膜是包含碳和氢的非晶碳膜,其中该非晶碳膜包含30原子%以下且大于0原子%的氢,并且当将碳的总量作为100原子%时,具有sp2杂化轨道的碳的存在量为70原子%以上且小于100原子%。通过控制氢、Csp3等的含量以增加包含Csp2的结构,从而对非晶碳膜赋予导电性。通过利用包含如下一种或多种气体的反应气体的等离子体CVD方法,可以形成该非晶碳膜,所述一种或多种气体选自包含具有sp2杂化轨道的碳的碳环化合物气体、和包含具有sp2杂化轨道的碳以及硅和/或氮的杂环化合物气体。通过在基材的表面上形成非晶碳膜可得到导电性部件。
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公开(公告)号:CN101448740A
公开(公告)日:2009-06-03
申请号:CN200780018780.0
申请日:2007-05-22
Applicant: 株式会社丰田中央研究所
CPC classification number: C23C16/26 , H01M8/0206 , H01M8/0213 , H01M8/0228 , Y02P70/56 , Y10T428/30 , Y10T428/31504 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明的非晶碳膜是包含碳和氢的非晶碳膜,其中该非晶碳膜包含30原子%以下且大于0原子%的氢,并且当将碳的总量作为100原子%时,具有sp2杂化轨道的碳的存在量为70原子%以上且小于100原子%。通过控制氢、Csp3等的含量以增加包含Csp2的结构,从而对非晶碳膜赋予导电性。通过利用包含如下一种或多种气体的反应气体的等离子体CVD方法,可以形成该非晶碳膜,所述一种或多种气体选自包含具有sp2杂化轨道的碳的碳环化合物气体、和包含具有sp2杂化轨道的碳以及硅和/或氮的杂环化合物气体。通过在基材的表面上形成非晶碳膜可得到导电性部件。
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