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公开(公告)号：CN1707632A
公开(公告)日：2005-12-14
申请号：CN200510075515.9
申请日：2005-06-02
CPC classification number: G11B7/00456 , G11B7/1263 , G11B7/1267 , G11B20/10009 , G11B20/10046 , G11B20/10055 , G11B20/1012 , G11B20/10481 , G11B2220/2537
Abstract: 在使用PRML识别系统的光盘系统中，提供了一种短时间内得出最佳记录波的方法。利用适合于PRML识别系统的信号评估方法得到的评估值作为指标来调整记录波的参数。在这种情况下，作为参数调整方法，可以使用多种调整方法(S1－S3，S5)。
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公开(公告)号：CN1331123C
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200510075515.9
申请日：2005-06-02
CPC classification number: G11B7/00456 , G11B7/1263 , G11B7/1267 , G11B20/10009 , G11B20/10046 , G11B20/10055 , G11B20/1012 , G11B20/10481 , G11B2220/2537
Abstract: 在使用PRML识别系统的光盘系统中，提供了一种短时间内得出最佳记录波的方法。利用适合于PRML识别系统的信号评估方法得到的评估值作为指标来调整记录波的参数。在这种情况下，作为参数调整方法，可以使用多种调整方法(S1-S3，S5)。
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公开(公告)号：CN102812086A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201080065652.3
申请日：2010-12-17
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: C08L67/04 , C08G81/00 , C08K5/49 , C08L83/04 , C08L101/16
CPC classification number: C08L67/04 , C08K5/49 , C08K5/526 , C08K5/53 , C08K5/5399 , C08L83/08 , C08L85/02 , C08L83/00
Abstract: 本发明提供了一种可以通过简单的方法制备并且甚至在需要高抗冲击性和优异阻燃特性的应用中具有抗渗移性的聚乳酸树脂组合物。还提供了一种使用所述聚乳酸树脂组合物制成的模塑制品。所公开的聚乳酸树脂组合物包含磷化合物(A)、聚乳酸树脂(C)和具有能与聚乳酸树脂(C)反应的官能团的聚硅氧烷化合物(B)作为必要组分。所公开的模塑制品通过模塑所述聚乳酸树脂组合物而得到。
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公开(公告)号：CN102027046B
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN200980117668.1
申请日：2009-05-15
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: C08G77/38 , C01B33/18 , C07F7/18 , C08L101/10
CPC classification number: C09C1/3081 , C01P2004/03 , C01P2004/64 , C07F7/0838 , C07F7/1804
Abstract: 本发明提供了一种有机硅化合物，其包含：特定的烷氧基有机聚硅氧烷部分；包含烷氧基硅烷基团的部分，所述部分结合至所述聚硅氧烷部分上；以及包含树脂相容链或反应性官能团的部分，所述部分结合至所述聚硅氧烷部分上。
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公开(公告)号：CN102027047A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200980117763.1
申请日：2009-05-15
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: C08G77/38 , C01B33/18 , C07F7/18 , C08L101/10
CPC classification number: C01B33/113 , B82Y30/00 , C01P2002/86 , C01P2004/64 , C07B2200/11 , C07F7/1804 , C08K3/22 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998 , C08L83/04
Abstract: 本发明提供了一种金属氧化物基微粒，其包含：金属氧化物基核区域；在所述核区域的外围形成的中间区域，所述中间区域具有烷氧基有机硅氧烷缩合物结构；和包含有机分子链或有机硅分子链或反应性官能团的表面区域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102027046A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200980117668.1
申请日：2009-05-15
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: C08G77/38 , C01B33/18 , C07F7/18 , C08L101/10
CPC classification number: C09C1/3081 , C01P2004/03 , C01P2004/64 , C07F7/0838 , C07F7/1804
Abstract: 本发明提供了一种有机硅化合物，其包含：特定的烷氧基有机聚硅氧烷部分；包含烷氧基硅烷基团的部分，所述部分结合至所述聚硅氧烷部分上；以及包含树脂相容链或反应性官能团的部分，所述部分结合至所述聚硅氧烷部分上。
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公开(公告)号：CN102027047B
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN200980117763.1
申请日：2009-05-15
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: C08G77/38 , C01B33/18 , C07F7/18 , C08L101/10
CPC classification number: C01B33/113 , B82Y30/00 , C01P2002/86 , C01P2004/64 , C07B2200/11 , C07F7/1804 , C08K3/22 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998 , C08L83/04
Abstract: 本发明提供了一种金属氧化物基微粒，其包含：金属氧化物基核区域；在所述核区域的外围形成的中间区域，所述中间区域具有烷氧基有机硅氧烷缩合物结构；和包含有机分子链或有机硅分子链或反应性官能团的表面区域。
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公开(公告)号：CN100378810C
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200510109644.5
申请日：2005-09-14
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B7/00736 , G11B7/0053 , G11B7/263
Abstract: 根据本发明的实施例的一种信息存储媒体包括同心的管理信息区域(1)。管理信息区域具有包括沿径向对准的多个凹槽(11)或标记(12)的集合的沿周向的多个条状图案(10)。沿周向对准的多个条状图案构成管理信息。
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公开(公告)号：CN101097740A
公开(公告)日：2008-01-02
申请号：CN200710122711.6
申请日：2007-07-02
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B7/00736 , G11B7/24038
Abstract: 本发明公开了一种信息记录介质和光盘设备，其中信息记录介质具有第一基片(41)、第一记录层、第二记录层、以及第二基片(48)。第一记录层从光入射侧开始具有第一染料层(42)和第一反射层(43)。第二记录层从光入射侧开始具有第二染料层(45)和第二反射层(46)。第二染料层的厚度大于第一染料层的厚度。
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公开(公告)号：CN1694167A
公开(公告)日：2005-11-09
申请号：CN200510065179.X
申请日：2005-04-13
Applicant: 株式会社东芝 , 株式会社林原生物化学研究所
CPC classification number: G11B7/2472 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/2495 , G11B7/2534 , G11B7/259
Abstract: 本发明公开了一种一次性写入式信息记录介质(28)，包括具有在其中形成的同心或螺旋凹槽的透明基材(20)；和在透明基材的凹槽上形成的记录膜(24)，其中记录凹槽有一个阴离子部分和一个阳离子部分，由一种有机颜料形成，该有机颜料的从要发射到记录膜的短波长激光的波长的最大吸收波长区域存在于较长波长侧，记录标记在记录膜上通过用短波长激光照射而形成，和记录标记的光反射系数高于在用短波激光照射之前的记录膜的光反射系数。因此，这种一次性写入式信息记录介质(28)具有所谓的低到高的特性，即，记录后的反射系数高于记录前的反射系数。
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