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公开(公告)号：CN114203817A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202110646851.3
申请日：2021-06-10
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
IPC: H01L29/78 , H01L29/06 , H01L21/336
Abstract: 实施方式的半导体装置具有第一电极、第二电极、第一导电型的第一半导体层、第二导电型的第二半导体层、第一导电型的第三半导体层、第一导电型的第一有源区域、以及第三电极。所述第一半导体层设于所述第一电极与所述第二电极之间。所述第二半导体层设于所述第一半导体层之上。所述第一有源区域在第二方向上与所述第二半导体层邻接。所述第一有源区域具有所述第一上部与第二下部。所述第一下部在所述第二方向上的宽度的平均值比所述第一上部在所述第二方向上的宽度的平均值大。所述第三半导体层与所述第二电极电连接。所述第三电极隔着绝缘膜设于与所述第一有源区域之间。
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公开(公告)号：CN119999352A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202480003857.0
申请日：2024-02-07
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
Abstract: 实施方式提供能够获得稳定的特性的半导体装置。根据实施方式，半导体装置包含元件部。所述元件部包含：半导体部件，包含焊盘部半导体区域及单元半导体区域；栅极电极；以及栅极焊盘部，与所述栅极电极电连接。所述栅极焊盘部包含第一导电部件和所述焊盘部半导体区域与所述第一导电部件之间的第一部件。所述第一部件包含沿与从所述焊盘部半导体区域向所述第一导电部件的第一方向交叉的第二方向排列的第一区域及第二区域。所述第一导电部件的至少一部分位于所述第一区域与所述第二区域之间。所述第一导电部件的所述至少一部分的第一表面包含第一凹凸。
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公开(公告)号：CN102420249A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201110277860.6
申请日：2011-09-19
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L29/78 , H01L29/0619 , H01L29/0634 , H01L29/0638 , H01L29/0878 , H01L29/1095 , H01L29/402 , H01L29/42356 , H01L29/42372 , H01L29/7811 , H01L29/7813
Abstract: 一种功率半导体装置，在第一导电型的第一半导体层(1)的第一表面上，相邻接地包括第一柱区域(6)、第二柱区域(10)、及第一导电型的外延层(3)。第一柱区域(6)具有交替配置的多个第二导电型的第一柱层(4)及多个第一导电型的第二柱层(5)，多个第二导电型的第一基极层(11)相隔开地连接在多个第一柱层(4)的各个之上。第二柱区域(10)相邻接地具有第二导电型的第三柱层(7)、第一导电型的第四柱层(8)、及第二导电型的第五柱层(9)。多个第二导电型的第二基极层(12)相隔开地连接在第三柱层及第五柱层的各个之上。多个源极层选择性地形成在多个第一基极层各自的表面。
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公开(公告)号：CN103022129A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210309467.5
申请日：2012-08-28
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L29/78 , H01L29/06 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/7802 , H01L29/0619 , H01L29/0634 , H01L29/0638 , H01L29/0696 , H01L29/0878 , H01L29/1095 , H01L29/404 , H01L29/7811
Abstract: 本发明提供一种提高了耐压的半导体装置及其制造方法。第1半导体层具有多个第1扩散层。第2半导体层具有多个第2扩散层。第3半导体层具有多个第3扩散层。多个第1扩散层的第1方向的宽度相互相同。多个第1扩散层内的杂质量随着从第1半导体层的下端向上端而逐渐变大。多个第2扩散层的第1方向的宽度相互相同。多个第2扩散层内的杂质量相互相同。多个第3扩散层的第1方向的宽度比处于同一层的第1扩散层的第1方向的宽度以及第2扩散层的第1方向的宽度窄，并且随着从第3半导体层的下端向上端而逐渐变窄。多个第3扩散层内的杂质量相互相同。
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公开(公告)号：CN102694028B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201210051614.3
申请日：2012-03-02
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L29/7802 , H01L29/0634 , H01L29/0696 , H01L29/0878 , H01L29/1095 , H01L29/4238 , H01L29/66712
Abstract: 实施方式的电力用半导体装置具备：第1导电型的第1半导体层(1)；设置于其上的第1导电型的第2半导体层(3)；设置于第2半导体层中的多个柱状的第2导电型的第3半导体层(4)；设置于第3半导体层的上端部的多个岛状的第2导电型的第4半导体层(5)；多个第1导电型的第5半导体层(6)；多个第2导电型的第6半导体层(8)；栅电极(11)；层间绝缘膜(12)；第1电极(13)以及第2电极(14)。第5半导体层设置于第4半导体层的表面。第6半导体层将相邻的两个第4半导体层相互连接起来。第1电极与第1半导体层连接。第2电极通过层间绝缘膜与栅电极绝缘，且经由栅电极的开口部与第4半导体层以及第5半导体层连接。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103022129B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201210309467.5
申请日：2012-08-28
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L29/78 , H01L29/06 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/7802 , H01L29/0619 , H01L29/0634 , H01L29/0638 , H01L29/0696 , H01L29/0878 , H01L29/1095 , H01L29/404 , H01L29/7811
Abstract: 本发明提供一种提高了耐压的半导体装置及其制造方法。第1半导体层具有多个第1扩散层。第2半导体层具有多个第2扩散层。第3半导体层具有多个第3扩散层。多个第1扩散层的第1方向的宽度相互相同。多个第1扩散层内的杂质量随着从第1半导体层的下端向上端而逐渐变大。多个第2扩散层的第1方向的宽度相互相同。多个第2扩散层内的杂质量相互相同。多个第3扩散层的第1方向的宽度比处于同一层的第1扩散层的第1方向的宽度以及第2扩散层的第1方向的宽度窄，并且随着从第3半导体层的下端向上端而逐渐变窄。多个第3扩散层内的杂质量相互相同。
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公开(公告)号：CN102420249B
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201110277860.6
申请日：2011-09-19
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L29/78 , H01L29/0619 , H01L29/0634 , H01L29/0638 , H01L29/0878 , H01L29/1095 , H01L29/402 , H01L29/42356 , H01L29/42372 , H01L29/7811 , H01L29/7813
Abstract: 一种功率半导体装置，在第一导电型的第一半导体层(1)的第一表面上，相邻接地包括第一柱区域(6)、第二柱区域(10)、及第一导电型的外延层(3)。第一柱区域(6)具有交替配置的多个第二导电型的第一柱层(4)及多个第一导电型的第二柱层(5)，多个第二导电型的第一基极层(11)相隔开地连接在多个第一柱层(4)的各个之上。第二柱区域(10)相邻接地具有第二导电型的第三柱层(7)、第一导电型的第四柱层(8)、及第二导电型的第五柱层(9)。多个第二导电型的第二基极层(12)相隔开地连接在第三柱层及第五柱层的各个之上。多个源极层选择性地形成在多个第一基极层各自的表面。
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公开(公告)号：CN103022127A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210068356.X
申请日：2012-03-15
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L29/0623 , H01L29/0619 , H01L29/0638 , H01L29/0878 , H01L29/1095 , H01L29/404 , H01L29/66712 , H01L29/7395 , H01L29/7811
Abstract: 本发明的实施方式的功率用半导体装置具备第1导电类型的第1半导体层、高电阻的外延层、第2导电类型的第2半导体层、第1导电类型的第3半导体层、栅电极、第1电极、以及第2电极。高电阻的外延层具有第1柱区域和第2柱区域。第1柱区域具有交替排列的多个第1导电类型的第1柱和多个第2导电类型的第2柱。第2柱区域在第1柱区域侧的一端中具有第3柱，在另一端中具有第4柱。第3柱的实质的杂质量比第1柱的实质的杂质量以及第2柱的实质的杂质量还少，比第4柱的实质的杂质量还多。
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公开(公告)号：CN102403357B
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201110254492.3
申请日：2011-08-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L29/78 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/0634 , H01L29/0638 , H01L29/0696 , H01L29/0878 , H01L29/1095 , H01L29/402 , H01L29/66712 , H01L29/7395 , H01L29/7802 , H01L29/7811 , H01L29/872
Abstract: 实施方式的功率用半导体装置具备第一导电型的第一半导体层(1)、第一漂移层(5)、第二漂移层(8)、第一电极(24)、和第二电极(25)，具有在第一电极(24)与第二电极(25)之间流过电流的元件部、和其外周的末端部。第一漂移层(5)具有在元件部中在第一方向上交替地配置的第1第一导电型柱层(3)和第1第二导电型柱层(4)，在末端部中具有第一外延层(2)。第二漂移层(8)在第二外延层(8)中的元件部和末端部中，具有沿着第一方向离开配置的第2及第3第二导电型柱层(7、7a)，将被它们分别所夹的第二外延层(8)分别作为第2及第3第一导电型柱层(6、6a)。
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公开(公告)号：CN102694028A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN201210051614.3
申请日：2012-03-02
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L29/7802 , H01L29/0634 , H01L29/0696 , H01L29/0878 , H01L29/1095 , H01L29/4238 , H01L29/66712
Abstract: 实施方式的电力用半导体装置具备：第1导电型的第1半导体层(1)；设置于其上的第1导电型的第2半导体层(3)；设置于第2半导体层中的多个柱状的第2导电型的第3半导体层(4)；设置于第3半导体层的上端部的多个岛状的第2导电型的第4半导体层(5)；多个第1导电型的第5半导体层(6)；多个第2导电型的第6半导体层(8)；栅电极(11)；层间绝缘膜(12)；第1电极(13)以及第2电极(14)。第5半导体层设置于第4半导体层的表面。第6半导体层将相邻的两个第4半导体层相互连接起来。第1电极与第1半导体层连接。第2电极通过层间绝缘膜与栅电极绝缘，且经由栅电极的开口部与第4半导体层以及第5半导体层连接。
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