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发明公开
处理装置、制造处理液体的方法和制造电子器件的方法无效

公开(公告)号：CN103681414A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201310401801.4

申请日：2013-09-06

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 平林英明 , 长岛祐次 , 平川雅章

IPC: H01L21/67 , H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02041 , H01L21/02052

Abstract: 根据一个实施方案，处理装置包括电解单元、碱添加单元和处理单元。所述电解单元包括阳极电极和阴极电极。所述电解单元经配置以含有不含金属的碱、盐酸和水的电解溶液。所述碱添加单元经配置以进一步将所述不含金属的碱添加到已经过电解的溶液。所述处理单元经配置以使用已经过电解且其中进一步添加所述不含金属的碱的溶液执行对将处理物体的处理。

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