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公开(公告)号:CN101552014A
公开(公告)日:2009-10-07
申请号:CN200910138832.9
申请日:2006-12-13
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 根据本发明的实施例,一种数据读/写装置,它包括记录层和对记录层施加电压、在记录层中产生电阻变化并记录数据的装置。所述记录层由含有至少两种阳离子元素的复合化合物组成,其中至少一种所述阳离子元素是具有电子不完全填充的d轨道的过渡元素,且相邻阳离子元素间的最短距离在0.32nm或以下。
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公开(公告)号:CN1983619A
公开(公告)日:2007-06-20
申请号:CN200610168972.7
申请日:2006-12-13
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 根据本发明的实施例,一种数据读/写装置,它包括记录层和对记录层施加电压、在记录层中产生电阻变化并记录数据的装置。所述记录层由含有至少两种阳离子元素的复合化合物组成,其中至少一种所述阳离子元素是具有电子不完全填充的d轨道的过渡元素,且相邻阳离子元素间的最短距离在0.32nm或以下。
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公开(公告)号:CN101552014B
公开(公告)日:2012-11-14
申请号:CN200910138832.9
申请日:2006-12-13
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 根据本发明的实施例,一种数据读/写装置,它包括记录层和对记录层施加电压、在记录层中产生电阻变化并记录数据的装置。所述记录层由含有至少两种阳离子元素的复合化合物组成,其中至少一种所述阳离子元素是具有电子不完全填充的d轨道的过渡元素,且相邻阳离子元素间的最短距离在0.32nm或以下。
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公开(公告)号:CN1983619B
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN200610168972.7
申请日:2006-12-13
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 根据本发明的实施例,一种数据读/写装置,它包括记录层和对记录层施加电压、在记录层中产生电阻变化并记录数据的装置。所述记录层由含有至少两种阳离子元素的复合化合物组成,其中至少一种所述阳离子元素是具有电子不完全填充的d轨道的过渡元素,且相邻阳离子元素间的最短距离在0.32nm或以下。
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