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公开(公告)号:CN103676325A
公开(公告)日:2014-03-26
申请号:CN201310472443.6
申请日:2013-09-06
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/1337 , G02F1/133711 , G02F2001/133388
Abstract: 根据一实施例,一种用于形成膜的方法,所述膜包括设置在基板上的第一部分和沿着第一部分的外边缘设置且围绕第一部分的第二部分,所述方法包括通过在基板上喷射液滴来形成第二部分的步骤,每个液滴包含第二部分的材料。所述方法还包括通过在基板中的区域上喷射其它液滴来形成第一部分的步骤,所述区域由第二部分围绕,且每个所述其它液滴包含第一部分的材料。
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公开(公告)号:CN104437932A
公开(公告)日:2015-03-25
申请号:CN201410437598.0
申请日:2014-08-29
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: B05B15/0266 , B05B15/55 , B05B15/555 , B05B15/557 , B05C5/0208 , G03F7/162 , B05B9/0403 , B05B13/0242 , B05B13/041
Abstract: 本发明根据实施形态,提供具备载物台、喷嘴、移动单元、气体供给部、洗净液供给部和喷嘴洗净部的螺旋涂敷装置。载物台具有载置涂敷对象物的载置面。喷嘴往载置在载物台上的涂敷对象物吐出液体。移动单元使喷嘴相对于载物台相对地移动。气体供给部提供气体。洗净液供给部提供洗净液。喷嘴洗净部具有气体供给口和洗净液供给口,从气体供给口向喷嘴喷射从气体供给部提供来的气体,从洗净液供给口向喷嘴吐出从洗净液供给部提供来的洗净液。
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公开(公告)号:CN103676325B
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201310472443.6
申请日:2013-09-06
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/1337 , G02F1/133711 , G02F2001/133388
Abstract: 根据一实施例,一种用于形成膜的方法,所述膜包括设置在基板上的第一部分和沿着第一部分的外边缘设置且围绕第一部分的第二部分,所述方法包括通过在基板上喷射液滴来形成第二部分的步骤,每个液滴包含第二部分的材料。所述方法还包括通过在基板中的区域上喷射其它液滴来形成第一部分的步骤,所述区域由第二部分围绕,且每个所述其它液滴包含第一部分的材料。
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