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公开(公告)号：CN1065360C
公开(公告)日：2001-05-02
申请号：CN95113190.7
申请日：1995-12-22
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J29/327 , H01J9/2271 , H01J9/2278 , H01J29/185 , H01J29/28 , H01J29/322
Abstract: 通过将第一颜料层和保护膜层曝光、显象后，在保护膜层上形成第二颜料层，应用保护膜分解剂将保护膜层和保护膜层上的第二颜料层一起剥离掉而得到的显示面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1692289A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200380100293.0
申请日：2003-11-20
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J29/867 , G02B5/22 , H01J29/898
Abstract: 适用于显示装置的滤光板100包含具有透光性的支持体，在450～650nm的波长范围内的575±20nm的特定波长具有最大吸收率，该滤光板100在设支持体的中央部分对规定波长λ的透射率为T1(λ)、支持体的周边部分对规定波长λ的透射率为T2(λ)时，满足：0.75≤T1(λ)/T2(λ)≤0.90的关系，而且在400～700nm内的2个任意波长λ1、λ2的透射率，满足：0.95≤(T1(λ)/T2(λ1))/(T1(λ2)/T2(λ2))≤1.05的关系。
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公开(公告)号：CN1617284A
公开(公告)日：2005-05-18
申请号：CN200410092751.7
申请日：2002-03-21
Applicant: 株式会社东芝
Inventor： 中尾哲久
CPC classification number: H01J29/185 , H01J29/898 , H01J2211/42
Abstract: 荧光面的形成方法，所述荧光面由在透光性基板的表面形成的颜料膜及荧光体膜构成，该方法包括在前述透光性基板表面涂布颜料分散液的步骤及使涂膜干燥、形成颜料膜的步骤，前述干燥步骤中，除了采用使前述涂膜的整个面干燥的方法之外，还采用吹拂空气的专用干燥方法来干燥前述涂膜的边角部分，且使前述颜料膜的膜厚在0.3μm以上。
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公开(公告)号：CN1202546C
公开(公告)日：2005-05-18
申请号：CN02107920.X
申请日：2002-03-21
Applicant: 株式会社东芝
Inventor： 中尾哲久
IPC: H01J9/227
CPC classification number: H01J29/185 , H01J29/898 , H01J2211/42
Abstract: 荧光面的形成方法，所述荧光面由在透光性基板的表面形成的颜料膜及荧光体膜构成，该方法包括在前述透光性基板表面涂布颜料分散液及使涂膜干燥形成颜料膜这2个步骤。前述干燥步骤中，将前述透光性基板的边角部分温度控制在36℃以上，或采用专用干燥手段对前述涂膜的边角部分进行干燥。
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公开(公告)号：CN1377055A
公开(公告)日：2002-10-30
申请号：CN02107920.X
申请日：2002-03-21
Applicant: 株式会社东芝
Inventor： 中尾哲久
IPC: H01J9/227
CPC classification number: H01J29/185 , H01J29/898 , H01J2211/42
Abstract: 荧光面的形成方法,所述荧光面由在透光性基板的表面形成的颜料膜及荧光体膜构成,该方法包括在前述透光性基板表面涂布颜料分散液及使涂膜干燥形成颜料膜这2个步骤。前述干燥步骤中,将前述透光性基板的边角部分温度控制在36℃以上,或采用专用干燥手段对前述涂膜的边角部分进行干燥。
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公开(公告)号：CN1132405A
公开(公告)日：1996-10-02
申请号：CN95113190.7
申请日：1995-12-22
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J29/327 , H01J9/2271 , H01J9/2278 , H01J29/185 , H01J29/28 , H01J29/322
Abstract: 通过将第一颜料层和保护膜层曝光、显象后，在保护膜层上形成第二颜料层，应用保护膜分解剂将保护膜层和保护膜层上的第二颜料层一起剥离掉而得到的显示面。
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