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公开(公告)号：CN101512725A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780033165.7
申请日：2007-09-05
Applicant: 栗田工业株式会社 , 大日本网屏制造株式会社
IPC: H01L21/027 , G02F1/13 , B08B3/02 , H01L21/304 , B08B3/08 , G11B7/26
CPC classification number: G03F7/423 , H01L21/6708
Abstract: 本发明提供一种能够从基板很好地去除抗蚀剂，并且能够再利用在该抗蚀剂的去除中使用过的处理液的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：基板保持装置，其用于保持基板；过硫酸生成装置，其使用硫酸生成过硫酸；混合装置，其对通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸以及与由所述过硫酸生成装置使用的硫酸相比更高温并且更高浓度的硫酸加以混合；以及喷出装置，其将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液，并向保持在所述基板保持装置的基板喷出。
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公开(公告)号：CN101512725B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200780033165.7
申请日：2007-09-05
Applicant: 栗田工业株式会社 , 大日本网屏制造株式会社
IPC: H01L21/027 , G02F1/13 , B08B3/02 , H01L21/304 , B08B3/08 , G11B7/26
CPC classification number: G03F7/423 , H01L21/6708
Abstract: 本发明提供一种能够从基板很好地去除抗蚀剂，并且能够再利用在该抗蚀剂的去除中使用过的处理液的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：基板保持装置，其用于保持基板；过硫酸生成装置，其使用硫酸生成过硫酸；混合装置，其对通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸以及与由所述过硫酸生成装置使用的硫酸相比更高温并且更高浓度的硫酸加以混合；以及喷出装置，其将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液，并向保持在所述基板保持装置的基板喷出。
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公开(公告)号：CN101425451A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200810173844.0
申请日：2008-10-29
Applicant: 大日本网屏制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/306 , B08B3/08
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67051
Abstract: 一种基板处理方法及装置，该方法在具有板且用处理液对基板实施处理的基板处理装置中执行，板具有与基板一个面隔开间隔而相对的相对面，该方法包括：前供给液液封工序，使前供给液通过与基板中心相对而形成在相对面上的喷出口供给至基板一个面与板之间，且通过前供给液使基板一个面与板之间的空间成为液封状态，前供给液相对基板及板的接触角小于处理液相对基板及板的接触角；处理液置换工序，在通过前供给液使空间成为液封状态后，通过向基板一个面与板之间供给处理液，一边将空间内维持为液封状态，一边将空间内的前供给液置换为处理液；处理液接触工序，在将前供给液置换后，通过处理液使空间成为液封状态，使处理液与基板一个面接触。
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公开(公告)号：CN101425451B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200810173844.0
申请日：2008-10-29
Applicant: 大日本网屏制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/306 , B08B3/08
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67051
Abstract: 一种基板处理方法及装置，该方法在具有板且用处理液对基板实施处理的基板处理装置中执行，板具有与基板一个面隔开间隔而相对的相对面，该方法包括：前供给液液封工序，使前供给液通过与基板中心相对而形成在相对面上的喷出口供给至基板一个面与板之间，且通过前供给液使基板一个面与板之间的空间成为液封状态，前供给液相对基板及板的接触角小于处理液相对基板及板的接触角；处理液置换工序，在通过前供给液使空间成为液封状态后，通过向基板一个面与板之间供给处理液，一边将空间内维持为液封状态，一边将空间内的前供给液置换为处理液；处理液接触工序，在将前供给液置换后，通过处理液使空间成为液封状态，使处理液与基板一个面接触。
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